FPD(Flat Panel Display)の基礎と将来展望【第7講の1】将来展望 前半
開催日 | オンデマンド |
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収録時間 | 58分 |
主催者 | シーエムシー・リサーチ |
キーワード | 電子デバイス・部品 半導体技術 |
開催エリア | 全国 |
ディスプレイの専門家である、鵜飼育弘氏が、フラットパネルディスプレイ(FPD)について、基礎から将来展望までをわかりやすくご説明いたします。基礎編である第1講~第6講は、かつて鵜飼氏が大阪市立大学大学院非常勤講師として講義された内容をたたき台に作成された資料で、今や大学・大学院では失われた講義です。第7講「将来展望」では、最新の情報を基に、今後の展望を論じます。
FPDの材料や部品の開発に携わっていらっしゃる方で、FPDの基礎から将来展望までを学びたい方にお勧めです。
・大学の授業では得られない視覚とディスプレイおよび光学特性測定法取得
・フラットパネルディスプレイ(FPD)の種類と駆動方式の基本技術の取得
・薄膜フィルムトランジスタ(TFT)デバイスの構造、動作原理、特性および製造プロセス、装置概要取得
・FPDのデバイス構造、動作原理、特性および製造技術の取得
・FPD用部材に対する構成、原理、特性の概要取得
・将来展望認識
※このページは全8回シリーズの7回目、「第7講の1」の申し込みページです。
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セミナー講師
鵜飼 育弘(うかい やすひろ) 氏
Ukai Display Device Institute (UDDI) 代表
【講師経歴】
略歴:1968年:大阪大学卒業、同年ホシデン(株)入社
1979年から主にトップゲート型a-Si TFT-LCD のR&Dおよび事業化に従事
1999年:東京工業大学から工学博士号授与される同年3月退職
1999年:ソニー(株)入社STLCD(ソニーと豊田自動織機の合弁)技術部長としてLTPS TFT-LCDの量産立ち上げに従事。
2002年~:モバイルディスプレイ事業本部担当部長及びコーポレートR&Dディスプレイデバイス開発本部Chief Distinguished Engineer
2008年3月:ソニー(株)退職
2008年4月~:現職
Journal of Display Technology (A Joint IEEE/OSA Publication) Co-Editor歴任
大阪市立大学大学院非常勤講師歴任
関西コンバーティングものづくり研究会幹事
応用物理学会終身会員Society for Information Display Senior Member
「薄膜トランジスタ技術のすべて」「実践ディスプレイ工学」「最新ディスプレイ技術トレンド2019」
“High Quality Liquid Crystal Displays and Smart Devices” Edited by S.Ishihara, S.Kobayashiand, Y.Ukai IET (2019) など著書多数
セミナー受講料
9,900円(税込)
※第1講~第7講の2までの全8回のシリーズです。
全8回を受講していただくことを推奨いたします。
受講について
【このセミナーはオンデマンドセミナーです】
ネット環境さえあれば、お好きな場所、お好きな時間に、何度でも受講できます!
- 受講開始日より2週間、繰り返して視聴できます。
- タブレットやスマートフォンでも視聴できます。
- セミナー資料はPDFで配布いたします。
- 第1講~第7講の2までの全8回のシリーズです。
受講対象・レベル
ディスプレイ関連企業(デバイス、部材、装置など)の技術者
ディスプレイ関連企業(デバイス、部材、装置など)の企画、経営管理者
ディスプレイ関連企業(デバイス、部材、装置など)の営業担当者
ディスプレイ関連企業(デバイス、部材、装置など)の品質管理者
新入社員および配置転換の人にもわかりやすく説明します。
習得できる知識
デバイス、部材、装置などの最新の技術及び商品化動向を把握し理解する上でのディスプレイ工学の基礎から最新技術を分かり易く説明します。 このセミナーを受講頂いて得られた知識が、明日からの業務に知恵として役立つように対応します。
・大学の授業では得られない視覚とディスプレイおよび光学特性測定法
・フラットパネルディスプレイ(FPD)の種類と駆動方式の基本技術
・薄膜フィルムトランジスタ(TFT)デバイスの構造、動作原理、特性および製造プロセス、装置概要
・FPDのデバイス構造、動作原理、特性および製造技術
・FPD用部材に対する構成、原理、特性の概要
・将来展望の認識
セミナープログラム
第1講 ディスプレイ工学とは(59分) | この回のお申込みはこちら |
1.1 人間の五感とディスプレイ 1.2 光とその測定法 1.3 ディスプレイデバイスの分類と特徴 1.4 ディスプレイ評価要素 |
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第2講 ディスプレイの駆動方式(50分) | この回のお申込みはこちら |
2.1 表示方式 2.2 マトリックス駆動方式 2.3 インパルス表示とホールド表示 |
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第3講 薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor :TFT)(76分) | この回のお申込みはこちら |
3.1 アモルファスSi(a-Si) 3.2 低温ポリシリコン(Low Temperature Poly-Si :LTPS) 3.3 酸化物半導体(例えばIn-Ga-Zn-O:IGZO) 3.4 有機半導体(Organic Semiconductor: OTFT) |
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第4講 FPDの製造(95分) | この回のお申込みはこちら |
4.1 TFTの製法 4.2 TFT-LCDの製法 4.3 AMOLEDの製法 |
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第5講 部材(55分) | この回のお申込みはこちら |
5.1 ガラス基板 5.2 機能フィルム(偏光板、位相差フィルムなど) 5.3 カラーフィルタ 5.4 発光材料 5.5 封止材料 5.6 バックライトユニット(BLU) |
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第6講 製造装置(48分) | この回のお申込みはこちら |
6.1 フォトリソグラフィ関連装置 6.2 露光装置 6.3 真空装置(PVD、PECVD、DEなど) 6.4 ELA(エキシマレーザーアニール)装置 6.5 イオン注入装置 |
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第7講の1 将来展望 前半(58分) | <本ページのセミナー> |
7.1 フレキシブルディスプレイ 7.2 ハイダイナミックレンジ(HDR: High Dynamic Range) (ミニLEDによるローカルディミングなど) 7.3 広色域 (量子ドット:Quantum Dotなど) 7.4 マイクロLED |
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第7講の2 将来展望 後半(54分) | この回のお申込みはこちら |
7.5 溶液プロセスによるTFT作製 7.6 空中ディスプレイ 7.7 タッチレスHMI(Human Machine Interface) 7.8 ディスプレイデバイスの勝者? |