高感度化フォトレジスト材料の設計術
| 開催日 |
13:00 ～ 16:30 締めきりました |
|---|---|
| 主催者 | サイエンス＆テクノロジー株式会社 |
| キーワード | 高分子・樹脂材料 電子材料 |
| 開催エリア | 全国 |
| 開催場所 | Live配信セミナー(会社・自宅にいながら受講可能) |
～分子設計の基礎とEUV用レジスト材料などの最新研究動向～
高分子・低分子化合物のレジスト材料に関する基礎や評価方法を解説！
EUV用レジスト材料など更なる高感度化が求められる新規レジスト材料の開発指針とは・・・
セミナー講師
【専門】
2001年3月 東京工業大学大学院総合理工学研究科物質電子化学専攻博士後期課程 修了博士（工学）
2001年４月 ～ 2002年3月 山形大学大学院 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー 講師（中核的研究機関研究員）
2002年４月 ～ 神奈川大学 助手（工学部 応用化学科）
2007年４月 ～ 同 助教 （工学部 物質生命化学科）
2009年４月 ～ 同 准教授
2012年４月 ～ 関西大学 准教授（化学生命工学部 化学・物質工学科）
2016年４月 ～ 同 教授～ 現在に至る
【受賞歴】
2007年 高分子学会「日立化成賞」“環状オリゴマーを基盤とした光機能性材料（レジスト、屈折率変換材料）の開発”
2012年 合成樹脂工業協会・学術奨励賞 「ＵＶ硬化性樹脂の開発を目的とした光機能性ハイパーブランチポリマーの合成」
2019年 合成樹脂工業協会・学術賞 「高性能なネットワーク構造の創製を目的とした新規硬化反応の開発」
セミナー受講料
※お申込みと同時にS&T会員登録をさせていただきます(E-mail案内登録とは異なります)。
44,000円( E-mail案内登録価格41,800円 )
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2名で 44,000円 (2名ともE-mail案内登録必須／１名あたり定価半額22,000円)
【1名分無料適用条件】
※2名様ともE-mail案内登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
※テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【Live配信/WEBセミナー受講限定】
１名申込みの場合：35,200円 ( E-Mail案内登録価格 33,440円 )
※WEBセミナーには「アーカイブとオンデマンド」が含まれます。
※1名様でお申込み場合、キャンペーン価格が自動適用になります。
※他の割引は併用できません。
受講について
Zoom配信の受講方法・接続確認
- 本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信となります。PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
- 申込み受理の連絡メールに、視聴用URLに関する連絡事項を記載しております。
- 事前に「Zoom」のインストール(または、ブラウザから参加)可能か、接続可能か等をご確認ください。
- セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
- セミナー中、講師へのご質問が可能です。
- 以下のテストミーティングより接続とマイク/スピーカーの出力・入力を事前にご確認いただいたうえで、お申込みください。
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配布資料
- 製本テキスト(開催前日着までを目安に発送)
※セミナー資料はお申し込み時のご住所へ発送させていただきます。
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
セミナー趣旨
受講対象・レベル
・新しいレジスト材料の開発に関する研究
習得できる知識
・レジスト材料の合成方法、評価方法、開発方法
セミナープログラム
１．レジスト材料（基礎）
1.1 原理
1.2 合成例
1.3 最新の化学増幅型
２．ポジ型レジスト材料（基礎）
2.1 合成方法
2.2 評価方法
３．ネガ型レジスト材料（基礎）
3.1 合成方法
3.2 評価方法
４．高分子レジスト材料と低分子レジスト（基礎と応用）
4.1 合成方法
4.2 評価方法
５．EUVレジスト材料の評価方法と開発方法の実例（基礎と応用）
６．最新型レジスト材料(メタルレジスト、EB、EUV用レジスト材料)（応用と発展）
□ 質疑応答 □