
レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策
リソグラフィの基礎、レジスト材の高性能化、評価技術、最近のリソグラフィ技術
セミナー終了後に個別相談会(希望者のみ)を実施!セミナー内容に関する質問や現場での困りごとを相談できます!
※見逃し配信(視聴可能期間1週間)あり!復習にご活用ください!(受講者以外の視聴はできません)
受講対象・レベル
【1】レジスト材料の研究開発、製造、品質管理、販売
【2】半導体、ディスプレイ、MEMS、センサーなどのデバイス開発、製造、販売
上記に従事されている方々(リーダークラスの方も歓迎です)
習得できる知識
・レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法
・レジストの品質管理手法
・レジストを使用する際の留意事項、トラブル対応能力
・リソグラフィープロセスの最適化方法
・リソグラフィー使用現場におけるトラブル対応能力
・素材メーカー、レジストメーカーとしての顧客対応能力
セミナープログラム
1. リソグラフィの基礎
(1)リソグラフィーとは
(2)露光システムとリソグラフィー装置の変遷
(3)解像度向上技術とそれに必要な材料
2.レジスト材料とその高性能化
(1)パターンニング用レジスト材料(総論)
(2)G線、i線用レジスト
(3)KrF用レジスト
(4)ArFおよびArF液浸用レジスト
(5)EUV用レジスト
(6)後工程(実装材料)用のレジスト
3.レジスト製造技術と品質管理
(1)レジスト製造技術
(2)レジストの性能安定化技術
(3)品質管理-その項目と管理方法
4.レジスト材料の評価技術
(1)性能評価
素材(樹脂、感光剤、添加物)やレジストの簡便かつ安価な評価方法をご紹介します。
(2)品質評価
顧客からの要求項目、スペック項目についての評価方法を述べます。
(3)シミュレーション技術
5.レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
(1)素材(樹脂、感光剤、添加物)製造時のトラブル
(2)レジスト製造時のトラブル
(3)レジスト販売時のトラブル
(4)レジスト使用時のトラブル
上記のそれぞれについて、①原因、②評価方法、③解決策を、材料面およびリソグラフィープロセス面から述べ、あわせて顧客対応策について詳述します。
6.20nm以下のリソグラフィー技術
(1)ダブルパターンニング技術
(2)DSA技術とその材料
(3)ナノインプリント技術
(4)今後のリソグラフィー技術
【質疑応答】
レジスト,リソグラフィー,露光,トラブル,不良,問題,課題,対策,研修,講座,セミナー
セミナー講師
(株)光機能材料研究所 代表取締役 工学博士 花畑 誠 氏
セミナー受講料
55,000円(税込、資料付)
■ セミナー主催者からの会員登録をしていただいた場合、1名で申込の場合44,000円、
2名同時申込の場合計55,000円(2人目無料:1名あたり27,500円)で受講できます。
(セミナーのお申し込みと同時に会員登録をさせていただきますので、
今回の受講料から会員価格を適用いたします。)
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ご登録いただきますと、セミナーや書籍などの商品をご案内させていただきます。
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受講について
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- Zoomを使用されたことがない方は、こちらからミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
- セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。
- 開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加ください。
- セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
- 無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。
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タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
受講料
55,000円(税込)/人