ＸＰＳ（ＥＳＣＡ）の基礎と応用

～X線光電子分光分析の測定手順と適切な分析運用とノウハウ～

■XPS分析の原理と進め方■
■XPS(ESCA)データ解釈の注意点■
■各種表面分析の中でのXPS分析の特徴と組み合わせ方■

固体表面、他の材料や環境との界面では何が起こっているのかを明らかにし品質保証、研究開発、生産・製造に役立てる
剥離、変色、劣化等の製造、品質保証での問題の検出、電池・半導体・触媒などの各種材料・複合材料やデバイス開発のための表面・界面の制御と理解、、、
接着、摩擦、電気、伝導など素材の原子レベルの表面・界面で起こる問題を迅速に解決して、開発指針を得るために
多くの表面分析の中でも使用頻度が高いXPSの実務で役立つテクニック
XPSの原理、試料作製と測定条件の設定方法、データ解析のノウハウ、最新のハードウェア技術の動向、、、

日時

【Live配信】 2023年7月21日（金） 13:00～16:30
【アーカイブ配信】 2023年7月28日（金） から配信開始（視聴期間：7/28～8/10）

セミナー講師

セミナー受講料

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受講について

Zoom配信の受講方法・接続確認

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配布資料

• Zoom配信受講：PDFテキスト(印刷可・編集不可)
• アーカイブ配信受講：PDFテキスト(印刷可・編集不可)

セミナー趣旨

受講対象・レベル

・XPS(ESCA)装置を使用されている方（初心者～中級者）
・XPS(ESCA)データを解釈する必要がある方
・表面分析による解析を立案する必要がある方

習得できる知識

・XPS分析の原理
・XPS析の進め方
・XPS(ESCA)データ解釈の注意点
・各種表面分析の中でのXPS分析の特徴と組み合わせ方

セミナープログラム

本セミナーは、XPSの原理、試料作製と測定条件の設定方法、データ解析を適切に
おこなうためのノウハウを紹介し、応用例を用いてわかりやすく解説する。

１．表面分析とは
　1.1 材料表面・界面の重要性
　1.2 各種表面分析手法
　1.3 AES（オージェ電子分光法）との比較
　1.4 TOF-SIMS（飛行時間型二次イオン質量分析法）との比較

２．XPSの原理と特徴
　2.1 XPS装置の構成
　2.2 XPS分析の原理
　2.3 XPSスペクトルと化学シフト
　2.4 XPS分析が表面分析となる理由
　2.5 深さ方向分析
　2.6 イメージング分析

３．XPSの試料作成と測定条件
　3.1 測定できる試料とその形状
　3.2 サンプリングの注意点　
　3.3 粉末試料
　3.4 絶縁試料
　3.5 電池材料、および導電物と絶縁物の混在試料

４．測定
　4.1 ワイドスペクトル (サーベイスペクトル)
　4.2 ナロースペクトル

５．データ処理
　5.1 定量計算
　5.2 定量範囲の決定
　5.3 化学状態の推定 (カーブフィッティング)

６．最新の測定技術
　6.1 マイクロXPS分析
　6.2 ガスクラスターイオン銃による有機試料の深さ方向分析
　6.3 高エネルギーXPS (HAXPES)
　6.4 UPS (紫外光電子分光法) とLEIPS (逆光電子分光法)
　6.5 AESと組み合わせた分析
　6.6 TOF-SIMSと組み合わせた分析

７．よくある質問
　スピン軌道相互作用による2本のピーク
　サテライトピーク
　あり得ない（？）ピークの解決
　分析結果をきれいに見せる方法
　角度分解XPSによる薄膜構造解析

８．まとめ、質疑