高感度化フォトレジスト材料の入門

セミナー趣旨

フォトレジスト材料は、化学増幅型システムを基盤として、露光システムの変遷と共に進化してきた。前半は、その進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について、基礎的な原理を交えて解説する。続いて、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説し、レジスト材料の基礎的な評価方法から、新規なレジスト材料の開発方法について解説する。さらに後半では、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料（分子レジスト、非化学増幅型レジスト、メタルレジスト）について解説する。

【講演キーワード】
レジスト材料、ポジ型、ネガ型、極端紫外線レジスト、メタルレジスト、レジスト材料の高感度化

    【講演のポイント】
　レジスト材料の合成方法は、基本的な有機合成化学や高分子合成化学の理論と実験方法の組みあわせであり、特別な合成法は必要ない。どのような分子を設計すればよいのかを、使用するレジストシステムを理解すれば、一般艇な研究し設備があれば容易に新しいレジスト材料は合成可能である。合成したレジスト材料が、高性能になる理由を解説し、新規レジスト材料の分子設計指針について考察を加える。

習得できる知識

・レジストシステムとレジスト材料について
・化学増幅型レジストシステムについて
・極端紫外線（EUV）レジストについて
・メタルレジストについて
・最先端のレジスト材料の課題について

セミナープログラム

　1.レジスト材料(基礎)
    　1.1　原理
    　1.2　合成例
    　1.3　最新の化学増幅型

    2.ポジ型レジスト材料(基礎)
    　2.1　合成方法
    　2.2　評価方法

    3.ネガ型レジスト材料(基礎)
    　3.1　合成方法
    　3.2　評価方法

    4.高分子レジスト材料と低分子レジスト(基礎と応用)
    　4.1　合成方法
    　4.2　評価方法

    5.EUVレジスト材料の評価方法と開発方法の実例(基礎と応用)

    6.最新型レジスト材料(メタルレジスト、EB、EUV用レジスト材料)(応用と発展)

    【質疑応答】

セミナー講師

関西大学　　 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授　 工藤　宏人　氏

セミナー受講料

【1名の場合】39,600円(税込、資料作成費用を含む)
2名以上は一人につき、11,000円が加算されます。