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~材料・前工程・設計・後工程まで、基礎知識から最新動向までを包括的に網羅~
セミナー趣旨
生成AIといった新しいアプリケーションの出現や、世界的な半導体不足等により、産業のコメと言われる半導体産業に対する注目が高まっている。半導体技術は多岐に渡り、技術者は縦割業務に従事しているのが現状であり、且つ半導体技術全体を包括的に把握する教材もまれである。
このセミナーは、そのような背景のもと、短時間に半導体技術全般を俯瞰でき、最新の技術動向も把握できるように構成されている。セミナーを受講することにより、半導体技術全般を理解し、自らの業務の位置づけの再認識や、半導体産業において包括的な見識のものとマネージメントができるエンジニアを育成することの一助としたい。
セミナーは、半導体材料の特筆すべき特性、チップの製造技術(前工程)、設計技術、パッケージ技術(後工程)を広く網羅するものになっている。
受講対象・レベル
半導体技術に関する知識や最新情報を、網羅的に習得したい方など
セミナープログラム
1.半導体とは~電気的スイッチ材料~
①半導体材料特性
②PN接合
③半導体トランジスタ
2.CMOS技術
①CMOSとは
②CMOS基本回路
3.前工程とチップ設計
①CMOS製造プロセス
②CMOSスタンダードセル
③CMOS設計フロー
④CMOSチップレイアウト例
⑤CMOS技術の進歩
4.後工程(パッケージング)
①後工程フロー
②後工程要素プロセス
③パッケージの種類と最近の技術動向
※申込状況により、開催中止となる場合がございます。
※講師・主催者とご同業の方のご参加はお断りする場合がございます。
※録音、録画・撮影・お申込者以外のご視聴はご遠慮ください。
セミナー講師
株式会社BML Solutions 代表取締役 蒲原史朗 氏
1988年 ㈱日立製作所中央研究所入社。
2003年~2010年 ㈱ルネサステクノロジー生産本部。
2010年~2021年 ルネサスエレクトロニクス㈱生産本部、インダストリアルソリューション事業本部。
2021年~ 株式会社BML Solutions設立 代表取締役 IoT&AIのソリューション開発・販売・コンサルティング。
1996年~1997年 University of California at Berkeley Industrial visiting fellow。
2006年~2010年 国家PJ次世代半導体材料・プロセス基盤プロジェクト(MIRAI)兼務「特性ばらつきに対して耐性の高いデバイス・プロセス技術開発」従事。
2010年~2010年 国家PJ低炭素社会を実現する超低電圧デバイスプロジェクト(LEAP)兼務「ナノトランジスタ構造デバイス研究」従事。
2011年~ 一般社団法人 日本半導体製造装置協会セミナー講師「これでわかった半導体-前工程/ウェーハプロセス」。
2014年~2018年 首都大学東京非常勤講師「半導体工学」。
2022年~ 一般社団法人半導体産業人会セミナー講師「低消費電力設計技術」。工学博士
セミナー受講料
会員 38,500円(本体 35,000円) 一般 41,800円(本体 38,000円)
※会員価格適用については、企業研究会会員が対象となります。
(所属先の会員登録有無がわからない場合、お申込みの際に備考欄へ「会員登録確認希望」とご記入ください。)
※最少催行人数に満たない場合には、開催を中止させて頂く場合がございます。
※お申込後のキャンセルは原則としてお受けしかねます。お申込者がご出席いただけない際は、代理の方のご出席をお願い申し上げます。
受講について
視聴用アカウント・セミナー資料は、原則として開催1営業日前までにメールでお送りいたします。
※最新事例を用いて作成する等の理由により、資料送付が直前になる場合がございます。
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