＜半導体製造において必須：プラズマプロセッシング＞プラズマプロセスにおける基礎と半導体微細加工へのプラズマによるエッチングプロセス
| 開催日 |
10:30 ～ 16:30 締めきりました |
|---|---|
| 主催者 | サイエンス＆テクノロジー株式会社 |
| キーワード | 応用物理 半導体技術 |
| 開催エリア | 全国 |
| 開催場所 | オンライン配信セミナー |
■半導体微細加工において重要なパラメータ：壁へのイオンや化学活性種のフラックス量とは？■半導体プロセスに用いられるプラズマ源、反応性イオンエッチングの表面現象を理解する！
★ さまざまな表面化学反応を低温で実現できるプラズマプロセス！ ★ プラズマの性質やプラズマ中で起こっている基本的な現象とは？ 二周波重畳プラズマの必要性と課題についても解説！
受講可能な形式：【Live配信】のみ
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セミナー趣旨
習得できる知識
プラズマの基礎、エッチングプロセス実現のためのプラズマ制御の基本指針