<なぜ今、めっきが電子デバイスに重要なのか?>よくわかる!めっき技術/新めっき技術と半導体・エレクトロニクスデバイスへの応用・最新動向

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開催日 10:30 ~ 16:30 
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主催者 サイエンス&テクノロジー株式会社
キーワード 金属材料   半導体技術   電子デバイス・部品
開催エリア 全国
開催場所 【Live配信】オンライン配信セミナー

★ 有機溶媒からのアルミニウムのめっき、新しいめっき技術とは!★ 高密度実装、パッケージや部品内蔵基板技術など、めっきはエレクトロニクスデバイスを進化させるキーテクノロジー!

■プリント基板の微細化・積層化■  ■積層チップの貫通電極、異方性導電粒子■ ■半導体ウエハにめっきする、バンプ形成技術、W‐CSPの配線とポスト形成技術■ ■フレキシブル配線板とITOの接合■  ■ワイヤーボンディング用金めっきの薄膜化■ ■コネクタのめっき、チップ部品のめっき、大型デバイスのめっき■ ■めっき法によるガラスマスクの作製■  ■環境調和型新規めっき技術■

  受講可能な形式:【Live配信】のみ 

セミナー講師

関東学院大学 理工学部 化学学系 教授 小岩 一郎 氏【受賞】平成2年5月 IMC1990優秀論文賞受賞、平成2年5月 平成2年度プリント回路学会論文賞平成20年2月平成20年度表面技術協会論文賞、平成20年5月平成20年度エレクトロニクス実装学会論文賞、平成26年3月第27回エレクトロニクス実装学会春季講演大会講演大会優秀賞、平成27年6月アカデミックプラザ5年連続発表賞、令和1年アカデミックプラザ賞

セミナー受講料

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55,000円( E-mail案内登録価格52,250円 )E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料2名で 55,000円 (2名ともE-mail案内登録必須/1名あたり定価半額27,500円)

【1名分無料適用条件】※2名様ともE-mail案内登録が必須です。※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。※3名様以上のお申込みの場合、1名あたり定価半額で追加受講できます。※請求書(PDFデータ)は、代表者にE-mailで送信いたします。※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。 (申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)※他の割引は併用できません。

 テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】1名申込みの場合:受講料( 定価:41,800円/E-mail案内登録価格 39,820円 )※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。※他の割引は併用できません。

受講、配布資料などについて

Zoom配信の受講方法・接続確認

  • 本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信となります。PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
  • 申込み受理の連絡メールに、視聴用URLに関する連絡事項を記載しております。
  • 事前に「Zoom」のインストール(または、ブラウザから参加)可能か、接続可能か等をご確認ください。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー中、講師へのご質問が可能です。

以下のテストミーティングより接続とマイク/スピーカーの出力・入力を事前にご確認いただいたうえで、お申込みください。≫ テストミーティングはこちら

配布資料PDFテキスト(印刷可・編集不可)その他注意事項※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

セミナー趣旨

1980年代に「めっき技術」の研究が軽視されていったが、1990年代に磁気ヘッドや半導体の銅配線にめっきが使用され、めっき技術への社会的なニーズが高まった。さらに、ウェハ上の薄膜形成がスパッタリング法が中心であったが、1997年のIBMによる銅めっき(ダマシン法)により、半導体にめっき技術が用いられるようになってきた。さらに、厚さが必要な高密度実装でのウエハレベルチップサイズパッケージや部品内蔵基板技術でも、めっき技術が重要なキーテクノロジーとなっている。さらに、有機溶媒からのアルミニウムのめっきなども活発に研究されている。その他の新しいめっき技術の紹介も行う。また、米国や欧州などの産業創生方法についても解説する。

習得できる知識

・めっきの基礎知識・めっきの新しい展開

セミナープログラム

1.今、めっき法がエレクトロニクスデバイスへの重要度が高まっているのか? 1.1 小型化・多機能化の進展を支える技術 1.2 高密度実装技術の必要性 1.3 エネルギー分野やヘルスケア分野への応用2.めっき法の躍進 2.1 今までのめっき技術 2.2 スパッタリング法との比較 2.3 エレクトロニクスにめっきが使用されるようになる2つの要素   ・銅配線   ・携帯化、低価格化、開発期間の短縮      (大型化、厚膜化、平坦化:ビアフィルなど) 2.4 現在のエレクトロニクス分野へのめっき法の適用 2.5 エレクトロニクス分野へめっき法を使用する利点 2.6 エレクトロニクス分野へめっき法を利用する際の注意点3.エレクトロニクスデバイスを進化させるめっき技術 3.0 めっき法とは 3.1 プリント基板の微細化(配線形成技術、基板の平坦化) 3.2 プリント基板の積層化(ビア技術) 3.3 積層チップの貫通電極 3.4 異方性導電粒子の作製法 3.5 半導体ウエハにめっきするバンプ形成技術 3.6 半導体ウエハにめっきするWーCSPの配線とポスト形成技術 3.7 フレキシブル配線板とITOの接合 3.8 ワイヤーボンディング用金めっきの薄膜化 3.9 コネクタのめっき 3.11 チップ部品のめっき 3.12 大型デバイスのめっき 3.13 めっき法によるガラスマスクの作製 3.14 医療分野へのめっき技術の展開 3.15 ナノ粒子を用いた反応性分散めっき 3.16 非懸濁液からの分散めっき膜の作製(Zn₋Al2O3、Zn-TiO2) 3.17 その他(放熱材料としてのCu-Mo合金など)4.非水溶媒を用いた新しいめっき技術 4.1 非水溶媒(有機溶媒とイオン液体)とは 4.2 非水溶媒をめっき法に用いる利点 4.3 非水溶媒をもちいためっき法の例(AlおよびAl合金を中心に説明)5.環境に対する注意点 5.1 シアンを含まないめっき浴からのシアンの検出 5.2 めっき法による環境問題の過去の知見 5.3 めっき法を用いる時の環境に対して新たに必要となる知見6.その他の新しいめっき技術 6.1 ハロゲン化物系濃厚水溶液を用いる金属電析 6.2 環境調和型新規めっき技術 6.3 各種めっきの過去現在未来(硬質クロム、ビアフィル銅、塗装下地、自動車用亜鉛)  6.4 その他7.米国と欧州の新しい産業の創生方法 7.1 30年かけて世界一になったシンガポール 7.2 シリコンバレーでの新規産業の創生方法 7.3 欧州(特にドイツ)での新規産業創生方法 7.4 日本の現状と今後必要になること8.まとめ  □質疑応答□