半導体製造における後工程・実装・設計の基礎・入門講座

セミナー趣旨

習得できる知識

セミナープログラム

１．半導体パッケージの基礎～パッケージの進化・発展経緯～
　1.1 始まりはSIPとDIP、プリント板の技術進化に伴いパッケージ形態が多様化
　1.2 THD（スルーホールデバイス）とSMD（表面実装デバイス）
　1.3 セラミックスパッケージとプラスチック（リードフレーム）パッケージとプリント基板パッケージ

２．パッケージングプロセス（代表例）
　2.1 セラミックスパッケージのパッケージングプロセス
　2.2 プラスチック（リードフレーム）パッケージのパッケージングプロセス
　2.3 プリント基板パッケージのパッケージングプロセス

３．各製造工程（プロセス）の技術とキーポイント
　3.1 前工程
　　3.1.1 BG（バックグラインド）とダイシング
　　3.1.2 DB（ダイボンド）
　　3.1.3 WB（ワイヤーボンド）
　3.2 封止・モールド工程
　　3.2.1 SL（封止：セラミックパッケージの場合）
　　3.2.2 モールド
　3.3 後工程
　　3.3.1 外装メッキ
　　3.3.2 切断整形
　　3.3.3 ボール付け
　　3.3.4 シンギュレーション
　　3.3.5 捺印
　3.4 バンプ・FC（フリップチップ）パッケージの工程
　　3.4.1 再配線・ウェーハバンプ
　　3.4.2 FC（フリップチップ）
　　3.4.3 UF（アンダーフィル）
　3.5 試験工程とそのキーポイント
　　3.5.1 代表的な試験工程
　　3.5.2 BI（バーンイン）工程
　　3.5.3 外観検査（リードスキャン）工程
　3.6 梱包工程とそのキーポイント
　　3.6.1 ベーキング
　　3.6.2 トレイ梱包・テーピング梱包
　
４．過去に経験した不具合
　4.1 チップクラック
　4.2 ワイヤー断線
　4.3 パッケージが膨れる・割れる
　4.4 実装後、パッケージが剥がれる
　4.5 BGAのボールが落ちる・破断する

５．試作・開発時の評価、解析手法の例
　5.1 とにかく破壊試験と強度確認
　5.2 MSL（吸湿・リフロー試験）
　5.3 機械的試験と温度サイクル試験
　5.4 SAT（超音波探傷）、XRAY（CT)、シャドウモアレ
　5.5 開封、研磨、そして観察
　5.6 ガイドラインはJEITAとJEDEC

６．RoHS、グリーン対応
　6.1 鉛フリー対応
　6.2 樹脂の難燃材改良
　6.3 PFAS/PFOAフリーが次の課題

７．今後の2.xD/3Dパッケージとチップレット技術
　7.1 2.xDパッケージ・3Dパッケージ
　7.2 ハイブリッドボンディング
　7.3 製造のキーはチップとインターポーザー間接合とTSV
　7.4 基板とインターポーザーの進化が未来を決める

　　□質疑応答□

セミナー講師

蛭牟田技術士事務所 代表　蛭牟田 要介　氏
＜経歴＞
1984～2003：富士通株式会社
2003～2009：Spansion Japan株式会社
2009～2022：NVデバイス株式会社（旧社名富士通デバイス株式会社）
2022～　　：独立技術士
＜専門分野＞
半導体後工程・実装、品質・信頼性分野
・スーパーコンピュータ向け等ハイエンドのパッケージング技術開発
・メモリ／ロジックデバイスのLFパッケージング技術全域
・モバイル向けMCPパッケージング開発と実装接続信頼性向上
・特殊用途向けセンサーデバイス、SiP（システムインパッケージ）開発
・特殊用途向けパッケージの耐強電磁界対応技術開発
・デバイスのリユースを促進する洗浄技術開発

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