大気圧プラズマを用いたSi系機能薄膜の低温・高能率形成技術

セミナー趣旨

大気圧プラズマは，減圧プラズマに代わる新たなプラズマ源として国内外を問わず活発に研究されてきた．
例えば，誘電体バリア放電（Dielectric Barrier Discharge: DBD）に代表されるように，大面積かつ安定なプラズマ源が開発・利用されつつある．このようなプラズマ源を応用すれば，低温かつ高能率なプロセスが実現可能になるだけでなく，使用する原料ガスが大気中で安定かつ安全であれば高価な真空排気系も不要となり，装置を大型化し易いなど，デバイス製造コストの削減に関してもメリットは大きい．そのため，成膜用ガラス基板表面のクリーニング，樹脂基板の表面改質によるぬれ性，付着力，接着性能の改善など，表面処理プロセスへの応用が活発に行われている．
一方，薄膜形成（プラズマCVD）に関する研究動向としては，大気開放系での低温・低コスト成膜法を目指した開発が中心となっており，酸化物系薄膜（SiO2，TiO2，ZnO等）や炭素系薄膜（非晶質C，DLC等）等の研究が報告されている．しかし，大気圧プラズマの本来の特性を積極的に利用すれば，例えばSiのような電気特性が重要視される機能薄膜の低温・高能率形成への応用も十分に期待できる．
この観点から，我々は，150 MHzの超高周波（VHF）による安定・均一な大気圧プラズマ生成技術開発とSi系機能薄膜の低温・高能率形成への応用に関する研究を進めてきた．
本講演では，我々が開発してきた大気圧PECVD技術について，一般的な減圧プラズマCVDとの比較を交えて説明するとともに，これまでに得られている研究成果の一端を紹介する．

セミナープログラム

１．プラズマ生成の基礎知識

２．一般的な薄膜作製法とプラズマの役割

３．薄膜の成長プロセスについて

４．減圧下における高密度プラズマプロセス

５．一般的な大気圧プラズマプロセス

６．超高周波（VHF）励起大気圧プラズマの特徴と性質

７．VHF励起大気圧プラズマを用いた機能性薄膜の形成例
　7.1 Si薄膜
　7.2 SiC薄膜
　7.3 SiNx薄膜
　7.4 SiO2薄膜
　7.5 その他

【質疑応答】

セミナー講師

 大阪大学　大学院工学研究科　物理学系専攻 精密工学コース　准教授　博士(工学)　垣内 弘章 氏

セミナー受講料

  1名につき55，000円（消費税込・資料付き）
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき49，500円（税込）〕

受講について

■　Live配信セミナーの視聴環境について

• 本講座はZoomを利用したLive配信セミナーです。セミナー会場での受講はできません。
• 下記リンクから視聴環境を確認の上、お申し込みください。
  　→ https://zoom.us/test
• 開催日が近くなりましたら、視聴用のURLとパスワードをメールにてご連絡申し上げます。
• セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
• Zoomクライアントは最新版にアップデートして使用してください。
• Webブラウザから視聴する場合は、Google Chrome、Firefox、Microsoft Edgeをご利用ください。
• パソコンの他にタブレット、スマートフォンでも視聴できます。
• セミナー資料はお申込み時にお知らせいただいた住所へお送りいたします。
  お申込みが直前の場合には、開催日までに資料の到着が間に合わないことがあります。ご了承ください。
• 当日は講師への質問をすることができます。可能な範囲で個別質問にも対応いたします。
• 本講座で使用される資料や配信動画は著作物であり、
  録音・録画・複写・転載・配布・上映・販売等を禁止いたします。
• 本講座はお申し込みいただいた方のみ受講いただけます。
• 複数端末から同時に視聴することや複数人での視聴は禁止いたします。
• Zoomのグループにパスワードを設定しています。
• 部外者の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
  万が一部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。