■最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術
■半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション(DX)
★最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説します。
日時
【Live配信:アーカイブ付き】 2025年1月20日(月)10:30~16:30
【アーカイブの視聴期間】2025年1月21日(火)~1月27日(月)まで
受講可能な形式:【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ
※アーカイブ配信のみの受講もOKです。
セミナー趣旨
習得できる知識
・プラズマプロセスの基礎知識
・ドライエッチングの基礎知識
・原子層エッチング(ALE)の基礎知識と最新技術動向
セミナープログラム
2.プラズマ科学の基礎
3.代表的なプラズマプロセス装置
4.反応性イオンエッチング(RIE)の基礎
4.1 プラズマ表面相互作用
4.2 表面帯電効果
4.3 シリコン系材料エッチング反応機構
4.4 金属・金属酸化物材料エッチング反応機構
4.5 高アスペクト比(HAR)エッチング概要
5.プラズマCVD概要:原子層堆積(ALD)の基礎として
6.ALDプロセスの概要:原子層エッチング(ALE)の逆過程として
6.1 熱ALD
6.2 プラズマ支援(PA-)ALD
7.ALEプロセスの概要と最新技術動向
7.1 PA-ALE
7.2 熱ALE:リガンド交換
7.3 熱ALE:金属錯体形成
8.半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション(DX)
8.1 プロセス数値シミュレーションとTCAD(technical computer aided design)
8.2 仮想計測(VM)とプロセス装置制御
8.3 マテリアルズ・インフォマティクス
8.4 プロセス開発における機械学習(ML)・AIの活用
9.まとめ
□質疑応答□
セミナー講師
大阪大学 大学院工学研究科 マテリアル生産科学専攻 教授 浜口 智志 氏
【経歴】
1982年東京大学理学部物理学科卒業
1987年同大学院理学系研究科物理学専攻博士課程修了
1988年ニューヨーク大学大学院数学科博士課程修了
1988年-1990年テキサス大学物理学科核融合研究所(IFS) 研究員
1990年-1998年IBM ワトソン研究所主任研究員
1998年-2004年京都大学エネルギー科学研究科・助教授
2004年-現在 大阪大学工学研究科・教授
【学位】
理学博士、Ph.D. in mathematics
【専門】
プラズマ物理学、プラズマプロセス工学、核融合科学
【学会活動】
国際真空科学技術応用国際連合(IUVSTA)プラズマ科学技術分科会(PSTD)長、Journal of Plasma Medicine 編集委員長、ライプニッツ・プラズマ科学技術研究所(ドイツ)科学諮問評議会委員、プラズマ医療国際学会(IPMS)元会長、米国真空学会(AVS) プラズマ科学技術分科会(PSTD)長、等。
【受賞】
2016:プラズマ賞・米国真空学会(AVS), 2012:米国物理学会(APS)フェロー、2011:AVSフェロー、2019ドイツ研究振興協会メルカトールフェロー、2022:日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会プラズマ材料科学賞 等
セミナー受講料
※お申込みと同時にS&T会員登録をさせていただきます(E-mail案内登録とは異なります)。
55,000円( E-mail案内登録価格52,250円 )
E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で 55,000円 (2名ともE-mail案内登録必須/1名あたり定価半額27,500円)
【1名分無料適用条件】
※2名様ともE-mail案内登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、1名あたり定価半額で追加受講できます。
※請求書(PDFデータ)は、代表者にE-mailで送信いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
(申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
■■■ 1名様で、12月1日申込み受付分から ■■■
テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合: 受講料 44,000円 (E-Mail案内登録価格 42,020円)
※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※他の割引は併用できません。
受講について
ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください)
アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認(申込み前に必ずご確認ください)
配布資料
- PDFテキスト(印刷可・編集不可)
関連セミナー
もっと見る-
2025/01/31(金)10:30 ~ 16:30
<基礎から学べる>半導体製造プロセスにおけるドライエッチング~ドライエッチングの基礎及びプロセス技術、最新の技術動向~<会場開催セミナー>
[東京・大井町]きゅりあん4階第1特別講習室
関連教材
もっと見る関連記事
もっと見る-
-
レオロジーとは?目的、種類、法則との関連性をご紹介!
【目次】 レオロジーとは、物質の流動や変形に関する学問であり、特に非ニュートン流体の挙動を理解するための重要な分野です。私たちの身の... -
半導体チップのプロセスとは?歴史やパターン化の困難性についてご紹介!
【目次】 半導体チップは、現代の電子機器の心臓部として、私たちの生活に欠かせない存在となっています。その製造プロセスは、非常に高度で... -
ナノテクノロジーとは?どのぐらい小さいのか?研究分野と研究における危険性についてご紹介!
【目次】 ナノテクノロジーは、物質の構造や特性をナノメートル(1ナノメートルは10億分の1メートル)という極めて小さなスケールで操作...