ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング(ALE)の最新技術動向
開催日 | 10:30 ~ 16:30 |
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主催者 | サイエンス&テクノロジー株式会社 |
キーワード | プラズマ技術 半導体技術 化学反応・プロセス |
開催エリア | 全国 |
開催場所 | Zoomを利用したオンライン講座 |
■最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術■半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション(DX)
★最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説します。
日時
【Live配信:アーカイブ付き】 2025年1月20日(月)10:30~16:30【アーカイブの視聴期間】2025年1月21日(火)~1月27日(月)まで 受講可能な形式:【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ ※アーカイブ配信のみの受講もOKです。
セミナー講師
大阪大学 大学院工学研究科 マテリアル生産科学専攻 教授 浜口 智志 氏【経歴】1982年東京大学理学部物理学科卒業1987年同大学院理学系研究科物理学専攻博士課程修了1988年ニューヨーク大学大学院数学科博士課程修了1988年-1990年テキサス大学物理学科核融合研究所(IFS) 研究員1990年-1998年IBM ワトソン研究所主任研究員1998年-2004年京都大学エネルギー科学研究科・助教授2004年-現在 大阪大学工学研究科・教授【学位】理学博士、Ph.D. in mathematics【専門】プラズマ物理学、プラズマプロセス工学、核融合科学【学会活動】国際真空科学技術応用国際連合(IUVSTA)プラズマ科学技術分科会(PSTD)長、Journal of Plasma Medicine 編集委員長、ライプニッツ・プラズマ科学技術研究所(ドイツ)科学諮問評議会委員、プラズマ医療国際学会(IPMS)元会長、米国真空学会(AVS) プラズマ科学技術分科会(PSTD)長、等。【受賞】2016:プラズマ賞・米国真空学会(AVS), 2012:米国物理学会(APS)フェロー、2011:AVSフェロー、2019ドイツ研究振興協会メルカトールフェロー、2022:日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会プラズマ材料科学賞 等
セミナー受講料
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■■■ 1名様で、12月1日申込み受付分から ■■■ テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】1名申込みの場合: 受講料 44,000円 (E-Mail案内登録価格 42,020円) ※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。 ※他の割引は併用できません。
受講について
ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください)アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認(申込み前に必ずご確認ください)
配布資料
- PDFテキスト(印刷可・編集不可)
セミナー趣旨
習得できる知識
・プラズマプロセスの基礎知識・ドライエッチングの基礎知識・原子層エッチング(ALE)の基礎知識と最新技術動向