セミナーに関する質問

ご質問を下記に記入していただければ、至急調査してお応えします。（営業時間　平日9時から18時）

参加セミナー名 先端半導体デバイスにおけるCu多層配線技術・ 低誘電率(Low-k)絶縁膜形成技術・ および3次元デバイス集積化技術の 基礎から最新動向と今後の課題
開催日 10:30 ～ 16:30
開催場所 ※会社やご自宅のパソコンで視聴可能な講座です