セミナーに関する質問

ご質問を下記に記入していただければ、至急調査してお応えします。（営業時間　平日9時から18時）

参加セミナー名 半導体精密洗浄・乾燥技術 ～半導体製造におけるシリコンウェーハ表面の洗浄・乾燥および表面汚染除去技術の基礎から最新動向まで～＜会場受講/オンライン受講選択セミナー＞
開催日 10:30 ～ 17:00
開催場所 講:会場　[東京・京急蒲田]大田区産業プラザ（PiO）6階C会議室