高感度化フォトレジスト材料の設計術

セミナー趣旨

受講対象・レベル

・新しいレジスト材料の開発に関する研究

習得できる知識

・レジスト材料の合成方法、評価方法、開発方法

セミナープログラム

１．レジスト材料（基礎）
　1.1　原理
　1.2　合成例
　1.3　最新の化学増幅型

２．ポジ型レジスト材料（基礎）
　2.1 合成方法
　2.2 評価方法

３．ネガ型レジスト材料（基礎）
　3.1 合成方法
　3.2 評価方法

４．高分子レジスト材料と低分子レジスト（基礎と応用）
　4.1 合成方法
　4.2 評価方法

５．EUVレジスト材料の評価方法と開発方法の実例（基礎と応用）

６．最新型レジスト材料(メタルレジスト、EB、EUV用レジスト材料)（応用と発展）

　　□ 質疑応答 □

セミナー講師

セミナー受講料

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44,000円( E-mail案内登録価格41,800円 )
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※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
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１名申込みの場合：35,200円 ( E-Mail案内登録価格 33,440円 )
※WEBセミナーには「アーカイブとオンデマンド」が含まれます。
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受講について

Zoom配信の受講方法・接続確認

• 本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信となります。PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
• 申込み受理の連絡メールに、視聴用URLに関する連絡事項を記載しております。
• 事前に「Zoom」のインストール(または、ブラウザから参加)可能か、接続可能か等をご確認ください。
• セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
• セミナー中、講師へのご質問が可能です。
• 以下のテストミーティングより接続とマイク/スピーカーの出力・入力を事前にご確認いただいたうえで、お申込みください。
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配布資料

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