＜半導体加工技術での高機能薄膜の形成へ＞ＡＬＤ（原子層堆積法）技術の基礎・入門と応用展開【オンデマンド配信】

セミナー趣旨

習得できる知識

・薄膜形成・加工の物理・評価技術
・半導体プロセス技術
・半導体デバイス技術
・信頼性評価技術

セミナープログラム

１．薄膜形成技術
　1.1　薄膜作製/加工の基礎
　1.2　薄膜の評価手法
　　1.2.1　電気的評価
　　1.2.2　化学的分析手法
　　1.2.3　光学的評価手法

２．ALD技術の基礎
　2.1　ALD技術の原理
　2.2　ALD薄膜の特長
　2.3　ALD技術の歴史
　2.4　ALD装置の仕組み
　2.5　ALD技術の材料

３．ALD技術の応用
　3.1　パワーデバイスへの応用
　3.2　酸化物薄膜トランジスへの応用
　3.3　MOS LSIへの応用
　3.4　太陽電池への応用

４．ALE技術の基礎
　4.1　ALEの歴史
　4.2　ALEの原理

５．ALE技術の応用事例
　5.1　シリコン、窒化ガリウム等半導体材料への応用
　5.2　シリコン酸化膜、窒化膜等絶縁膜への応用
　5.3　Co等金属膜への応用

６．ALD/ALE技術の課題と展望

■Ｑ＆Ａ■
　このセミナーに関する質問に限り、講師とメールにて個別Q&Aをすることができます。
　具体的には、セミナー資料に講師のメールアドレスを掲載していますので、セミナーに関する質問がございましたら
　直接メールでご質問ください。
　（ご質問の内容や時期によっては、ご回答できない場合がございますのでご了承下さい。）

セミナー講師

奈良先端科学技術大学院大学 教授　浦岡 行治　氏

＜略歴＞
1985年　松下電器産業（パナソニック）　半導体研究センター
1994年　松下電器産業（パナソニック）液晶開発センター
1999年　奈良先端科学技術大学院大学　准教授
2009年　奈良先端科学技術大学院大学　教授
2023年　奈良先端科学技術大学院大学　マテリアル研究プラットフォームセンター長
応用物理学会フェロー

＜WebSite＞
https://mswebs.naist.jp/LABs/uraoka/PUBLIC/top/top.html

セミナー受講料

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55,000円( E-mail案内登録価格52,250円 )
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2名で 55,000円 (2名ともE-mail案内登録必須／１名あたり定価半額27,500円)

【1名分無料適用条件】
※2名様ともE-mail案内登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
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※他の割引は併用できません。

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１名申込みの場合：40,150円 ( E-Mail案内登録価格 38,170円 )
※WEBセミナーには「アーカイブとオンデマンド」が含まれます。
※1名様でお申込み場合、キャンペーン価格が自動適用になります。
※他の割引は併用できません。

受講について

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• 講師メールアドレスの掲載：有