薄膜作製の基礎とトラブル対策 ～スパッタ、真空蒸着、CVD～＜2日間＞

セミナー趣旨

　スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長（CVD）法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス，太陽電池，建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
　本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。

受講対象・レベル

・薄膜作製に関連する研究・開発・製造業務にたずさわって2～3年の若手技術者や新人の方
・薄膜作製に関してある程度の経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方

必要な予備知識

高等学校程度の物理、化学および数学の知識。できるだけ初学者の方でも理解できるよう、数式等の使用は最小限にして解説します。

習得できる知識

・成膜プロセス設計に必要な基礎知識
・成膜プロセスで発生したトラブル対応に必要な基礎知識

セミナープログラム

１．成膜技術に必要な真空・表面物性工学
　1-1.　気体分子運動論の基礎
　1-2.　真空工学の基礎
　1-3.　表面物性工学の基礎

２．真空蒸着法
　2-1.　真空蒸着法の原理
　2-2.　真空蒸着法の種類と装置例
　2-3.　真空蒸着法で作製される薄膜の例
　2-4.　真空蒸着法を適用する際の留意事項

３．スパッタ法
　3-1.　スパッタ法の原理　 
　3-2.　スパッタ法の種類と装置例
　3-3.　スパッタ法で作製される薄膜の例
　3-4.　スパッタ法を適用する際の留意事項

４．化学気相成長（CVD）法
　4-1.　CVD法の原理　 
　4-2.　CVD法の種類と装置例
　4-3.　CVD法で作製される薄膜の例
　4-4.　CVD法を適用する際の留意事項

５．薄膜評価法
　5-1　表面モルフォロジ、ステップカバレッジ
　5-2　膜組成、膜構造
　5-3　付着力、膜応力
　5-4　電気的特性、光学的特性

６．成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法
　6-1　膜質に関するトラブル
　6-2　装置に関するトラブル

キーワード：
薄膜,成膜,蒸着,スパッタ,CVD,評価,セミナー

セミナー講師

三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 教授 博士（工学）　佐藤 英樹 氏

【ご専門】
　薄膜・表面物性工学、ナノ材料工学
【ご略歴】
　1996〜2000　アネルバ（株）（現 キヤノンアネルバ）　半導体装置事業部　技術担当
　上記期間中、量産用スパッタリング装置、プラズマCVD装置およびMOCVD装置の開発業務に従事
　2000〜2007　三重大学　大学院工学研究科　電気電子工学専攻　助手
　2007〜2023　同 准教授
　2023〜現在　同 教授
　2002〜2003　米国ノースカロライナ大学チャペルヒル校　客員研究員
　上記期間中、各種成膜法を使用したナノカーボン材料の合成およびその応用に関する研究に従事
【ご所属学会】
　応用物理学会、日本表面真空学会、フラーレン・ナノチューブ・グラフェン学会、炭素材料学会　会員

セミナー受講料

55,000円（税込、資料付）
■ セミナー主催者からの会員登録をしていただいた場合、1名で申込の場合49,500円、
　 2名同時申込の場合計55,000円（2人目無料：1名あたり27,500円）で受講できます。
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　  今回の受講料から会員価格を適用いたします。）
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受講について

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