EUVリソグラフィーの基礎から最新技術開発の現状、課題と今後の半導体微細加工技術の展開

セミナー趣旨

　2019年よりEUVリソグラフィー（EUVL）は7 nm+世代の半導体量産技術として適用が開始された。この状況まで来るのに、EUVLの黎明期を含め約35年掛かって実現した。兵庫県立大学は国内大学が保有している中で最大のニュースバル放射光施設を有しており、これまでASET、SELETE,EUVA、EIDECの４つ国家プロジェクトの参画し、また、これまで数多くの国内外の企業との共同研究を通じてEUVL技術開発に貢献してきた。講演ではEUVL技術の黎明期からその技術の基礎について、また、現在の技術状況と課題、そして、今後の展開について解説する。さらに、日本の半導体復興に必要な項目について理解を深める。
　黎明期のEUVL技術開発の紹介により、より深くEUVL技術開発のキーポイントの理解を深めていただきます。また、EUVL技術の現状および課題については、EUV露光装置（EUV光源を含み）に加えて、EUVレジスト、EUVマスク、EUVペリクルなどEUVL全般に亘って基盤技術について解説する。

受講対象・レベル

・製造業務にたずさわって2~3年の若手技術者や新人の方、並びに学生：院生

必要な予備知識

・特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。

習得できる知識

・EUVリソグラフィ技術の基礎、現状、課題。今後の展開
・また、今後の日本の半導体復興に向けた提言

セミナープログラム

1. はじめに

2. 半導体の動向

3. EUVリソグラフィーとは

4. EUVリソグラフィーの黎明期

5. EUVリソグラフィーの必要性

6. EUVLの技術課題

7. EUVL用露光機（EUV光源を含む）

8. EUVレジスト
　　1) 化学増幅系レジスト、非科学増幅系レジスト、金属レジスト、他
　　評価系
　　2) ホモジニティ、レジスト膜の層分離など

9. EUVマスク
　　1) 構造、多層膜、吸収体、High-kおよびLow-k材料
　　2) マスク評価系、など

10. EUVペリクル
       1) 材料
　    2) 評価系

11. 日本の半導体の将来に向けて

12. まとめ

キーワード：
EUV,リソグラフィー,EUVL,レジスト,マスク,ペリクル,セミナー,講演

セミナー講師

兵庫県公立大学法人 兵庫県立大学 名誉教授・特任教授
社会価値創造機構 理学博士 渡邊 健夫 氏

セミナー受講料

55,000円（税込、資料付）
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　 2名同時申込の場合計55,000円（2人目無料：1名あたり27,500円）で受講できます。
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　  今回の受講料から会員価格を適用いたします。）
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