【（1日完結）オンライン学習講座】半導体産業と製造プロセス技術入門【LIVE配信・WEBセミナー・復習用アーカイブ付き】【LIVE配信・WEBセミナー】

セミナー趣旨

半導体の材料、その構造、物理など、基本について理解する。
CMOS LSIを中心にして半導体デバイスの作製プロセス技術について学ぶ。

セミナープログラム

1．半導体とは
　1－1．半導体の特長
　1－2．半導体の物理

2．半導体材料
　2－1．Ge, Si, 化合物半導体
　2－2．その他の半導体材料
　2－3．Siの特長

3．Si Wafer
　3－1．Si Waferの製法（石英からSi Wafer）
　3－2．Si WaferからLSIまで

4．半導体デバイス製造プロセス
　4－1．デバイス製造プロセスの概要
　4－2．フォトリソグラフィ
　　4－２－1．フォトリソグラフィ工程の流れ
　　4－２－2．デバイスの発展とフォトリソグラフィ技術
　　4－２－3．微細化対応
　　4－２－4．露光光源波長、光学系、露光方式
　　4－２－5．フォトレジスト
　　4－２－6．フォトマスク（レクチル）
　　4－２－7．超解像技術、パターン忠実化技術
　4－3．洗浄技術
　　4－3－1．バッチ式洗浄
　　4－3－2．枚葉式洗浄
　4－４．不純物導入技術
　　4－4－1．熱拡散
　　4－4－2．イオン注入
　　4－4－3．アニール（Anneal）
　4－5．成膜技術
　　4－5－1. 熱酸化技術
　　4－5－2．CVD技術
　　4－5－3．スパッタ技術
　　4－5－4．その他成膜技術
　4－６．ドライエッチング技術
　4－7．平坦化技術（CMP）
　4－8．電気検査
　　4－8－1．Tr特性評価
　　4－8－2．信頼性評価
　　4－8－３．歩留まり評価

【質疑応答】

セミナー講師

サクセスインターナショナル　 無所属 / 技術顧問　 鈴木　俊治　氏
【経歴】
1968～　Siデバイス・プロセス技術開発（ソニー中央研究所）
1975～　CCD用Si基板の開発、酸化・熱処理技術の開発
1981～　化合物半導体（GaAs、GaAlAs）デバイス・プロセス開発
1989～　LSIプロセス技術開発　(ソニー超LSI技術研究所
1993～　超LSI技術の研究開発企画
2001～　ディスプレー技術開発　（PDP製造プロセス技術　LTPS TFT作製技術）
2002　博士号取得
2003～2009　イオン注入装置開発企画/推進（住友重機会イオンテクノロジー㈱）
2010～2013　㈱サクセスインターナショナル　技術顧問

【専門内容】
半導体物性、CMOS LSI技術、CMOS LSI作製プロセス技術、Si熱酸化技術、Ion注入技術、熱処理技術

【講演実績】
サクセスインターナショナル開催のセミナーで多数回
「若手技術者に向けた半導体製造工程のオーバービュー」於Semicon. Japan 2016～2023まで1回/年
半導体産業人協会の教育委員として多数回

セミナー受講料

・1口(1-2名まで受講可能)60,500円(消費税・資料代込)  　
  お申込み人数はお申し込み人数は、1名でも2名でも金額に変更はありません。

・1口(3名まで受講可能) 90,750円(消費税・資料代込)

※同一法人4名以上は1人あたり30,250円(消費税・資料代込)で金額追加で受講可