シリコンフォトニクス技術の基礎から開発・応用動向、将来展望まで

◯シリコンフォトニクスの現在地と課題・展望を半日で掴む!
◯基礎から光導波路や各種光デバイスの構造・動作原理、小型化・高機能化などの技術動向、光伝送モジュールやLiDAR等への応用およびエコシステムなどの産業展開の動き、現在の限界と課題まで。

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    セミナー趣旨

      Society 5.0やIOWN構想などで代表される社会の急激なDX化においては、情報流通量の爆発的な増大が予想されている。そこで近年、光伝送技術を大規模に導入した経済性やエネルギー効率に優れるコンピューティングスシステムの開発が進みつつある。また、ネットワークシステムの経済性やエネルギー効率の向上にむけた光回路の超小型化や光電子回路融合の技術開発も進みつつある。このような背景の下、シリコン電子回路の製造技術をベースとした超小型光電子融合集積回路技術であるシリコンフォトニクスの研究開発が世界中で精力的に進行中である。
      そこで本セミナーでは、まず第一部において、このシリコンフォトニクス技術の研究開発状況や産業展開状況を紹介する。そして、第二部において、シリコン光導波路やシリコンフォトニクスデバイスの構造や動作について理解を深めるとともに、シリコンフォトニクス技術の限界と課題について議論する。

    受講対象・レベル

    ・シリコンフォトニクス技術を用いた光集積回路開発に従事している、または従事する予定の研究者・技術者の方
    ・シリコンフォトニクス技術に関する研究を専攻している、または専攻する予定の大学生、大学院生
    ・光デバイス、半導体デバイス、光伝送モジュール等の分野の研究者・技術者で集積フォトニクスに興味のある方

    必要な予備知識

    下記のいずれかの予備知識や経験があることが望ましい。
    ・大学教養課程レベルまたは高等専門学校レベルの物理、数学、半導体関連の知識
    ・企業における電子回路・半導体デバイス、光回路・光デバイス、光伝送モジュール等の開発の経験

    習得できる知識

    ・シリコンフォトニクスの基本コンセプト、開発状況、応用展開状況
    ・シリコンフォトニクスデバイスの動作原理、シリコンフォトニクス技術の課題と限界
    など

    セミナープログラム

    【第一部 シリコンフォトニクス技術の概要と産業展開状況】
    1.シリコンフォトニクスが求められる背景
     ・コンピューティング/ネットワークへの大規模なフォトニクスの導入
     ・プラガブルトランシーバーから光電コパッケージへ
     ・ディスクリートデバイスから集積フォトニクスへ
    2.シリコンフォトニクスの特徴と現状
     ・小型化、省エネ化、ハイブリッド集積による高機能化、光電融合
     ・産業適用状況:光伝送モジュールなど
     ・情報通信以外への応用:LiDAR、バイオセンシング
    3.シリコンフォトニクスの産業展開
     ・自動化(実装、評価、設計)&ファンドリー
     ・産業エコシステム、R&Dエコシステム
    4.シリコンフォトニクスR&Dエコシステム
     ・産総研によるオープンイノベーション活動を例に
     ・300mmウエハーラインによるシリコンフォトニクス製造
     ・コンソーシアム活動やファンドリーサービスを通じた技術の普及
    【第二部 シリコンフォトニクス技術の基礎】
    1.シリコン光導波路の構造と特徴
    2.ファイバー結合構造
    3.各種光デバイス
     ・分岐/合波デバイス
     ・さまざまな波長フィルター
     ・光スイッチ/変調器
     ・受光器
     ・光源
     ・集積化の進展
    4.シリコンによるフォトニクスのパラダイムシフトへ
     ・シリコンフォトニクスの課題と将来展望
    <質疑応答>


    *途中、小休憩を挟みます。

    セミナー講師

     国立研究開発法人 産業技術総合研究所 プラットフォームフォトニクス研究センター 総括研究主幹    山田 浩治 氏

    ■ご略歴
    1986年 九州大学工学部応用原子核工学科卒業。1988年 同大大学院修士課程応用原子核工学専攻修了。
    2003年 博士(工学、九州大学大学院工学府エネルギー量子工学専攻)。1988年 NTT研究所入所。
    放射光用電子シンクロトロンの研究開発、高エネルギー電子ビーム応用技術の研究、
    およびシリコンフォトニクスに関する研究に従事。
    2015年 産業技術総合研究所入所。シリコンフォトニクスに関する研究に従事。
    また、2009年から2014年度にわたり光電子融合基盤技術研究所(PETRA)において、高密度光配線技術に関する研究にも参画。
    応用物理学会、電子情報通信学会、米国IEEE(Fellow)各会員。

    セミナー受講料

    【オンライン受講:見逃し視聴なし】 1名41,800円(税込(消費税10%)、資料付)
    *1社2名以上同時申込の場合、1名につき30,800円

    【オンライン受講:見逃し視聴あり】 1名47,300円(税込(消費税10%)、資料付)
    *1社2名以上同時申込の場合、1名につき36,300円

    *学校法人割引;学生、教員のご参加は受講料50%割引。

    受講について

    • 配布資料は、印刷物を郵送で1部送付致します。お申込の際はお受け取り可能な住所をご記入ください。
      お申込みは4営業日前までを推奨します。
      それ以降でもお申込みはお受けしておりますが(開催1営業日前の12:00まで)、
      テキスト到着がセミナー後になる可能性がございます。
    • 資料未達の場合などを除き、資料の再配布はご対応できかねますのでご了承ください。
    • 受講にあたってこちらをご確認の上、お申し込みください。
    • Zoomを使用したオンラインセミナーです
      →環境の確認についてこちらからご確認ください
    • 申込み時に(見逃し視聴有り)を選択された方は、見逃し視聴が可能です
      →こちらをご確認ください

     

    受講料

    41,800円(税込)/人

    ※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

    開催日時


    13:00

    受講料

    41,800円(税込)/人

    ※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

    ※銀行振込、コンビニ払い

    開催場所

    全国

    主催者

    キーワード

    光学技術   電子デバイス・部品   半導体技術

    ※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

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    13:00

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