ドライ洗浄技術の動向と環境負荷低減に向けた製造工程への応用

★半導体をはじめとした製造工程においてドライ洗浄に求められる要件とは ★各種洗浄技術の特徴と適用ポイントについて解説

セミナー講師

１． 大陽日酸（株）　インベーションユニット　部長　宮本 康司 氏 ２． ウシオ電機（株）　光プロセス GBU　第一技術部　光源システム設計課　シニアエンジニア　有本 太郎 氏 ３． 東成エレクトロビーム（株）　技術部　研究開発課　主任　高橋 慧輔 氏 ４．（株）伸興　本社工場　開発課　課長　博士(工学)　添本 和彦 氏

セミナー受講料

  1名につき66，000円（消費税込・資料付き）〔1社2名以上同時申込の場合1名につき60，500円（税込）〕

受講について

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セミナープログラム

＜１０：３０〜１１：４０＞１．ドライアイスブラスト装置の紹介とドライ洗浄への応用

大陽日酸（株）　宮本 康司 氏

【ご活躍】　旧日本酸素に入社し、本社、全国拠点、海外現地法人にて当社主業である工業ガス販売の営業やマーケティング活動に従事、2022年より現職にて、3Dプリンターやドライアイスブラスト装置、半導体製造業様向け付帯設備等、「ガスアプリケーション機器」の営業を担当

【講演ポイント】　工業用途では以前より広く使用されているドライアイスブラスト洗浄ですが、近年の部品の微細化・高集積に伴い半導体分野においても活用が期待される装置です。　本講演では、当社ドライアイスブラスト装置の種類・特徴・実例を踏まえた製造現場での適合分野をご紹介致します。

【プログラム】１．当社の紹介２．ドライアイスブラストの歴史３．洗浄原理４．ドライアイスブラスト装置の種類５．半導体顧客向けドライアイスブラスト装置のご紹介６．強力洗浄対応ドライアイスブラスト装置とDIメディア製造装置のご紹介７．（カーボンニュートラルとPFAS規制について）【質疑応答】

＜１２：３０〜１３：４０＞２．エキシマランプ（UV光）を用いた洗浄技術と基板のドライ洗浄への応用

ウシオ電機（株）　有本 太郎 氏

【講演ポイント】Xe2*エキシマ光（波長172 nm）を用いたVUV 処理技術は、精密ドライ洗浄のツールとしてFPD製造プロセスの分野で広く利用されてきた。昨今ではVUV 処理によるドライ洗浄、表面改質の特徴を生かして、さまざまな分野への応用・展開がなされるようになってきており、デバイスの微細化、高性能化をもたらすものとして期待が高まっている。本セミナーでは，今後さらに新たな分野・プロセスで用途が拡大していくと思われるVUV処理技術について紹介する。

【プログラム】１．エキシマ光による精密ドライ洗浄技術　1.1 エキシマランプの特徴　1.2 精密ドライ洗浄の原理２．精密ドライ洗浄の事例　2.1 LCD製造での導入事例　2.2 半導体製造での導入事例　2.3 半導体ウエハに対するVUVドライ洗浄　2.4 ガラス基板に対するVUVドライ洗浄　2.5 金属表面に対するVUVドライ洗浄３．応用事例　3.1 各種プラスチックの親水化　3.2 ダメージフリーアッシング　3.3 プラスチックの常温接合技術【質疑応答】

＜１３：５０〜１５：００＞３．レーザクリーニングによるドライ洗浄化

東成エレクトロビーム（株）　高橋 慧輔 氏

【講演ポイント】近年新たなクリーニング手法として採用が進んでいるレーザクリーニング技術。レーザクリーニングの基本となる原理や効果、メリットやデメリット、 弊社装置の特徴などを改めて解説し、実際の適用事例も交えてドライなレーザクリーニングの魅力をお届けする。

【プログラム】１．会社紹介２．レーザクリーニング原理３．レーザクリーニング装置「イレーザー」紹介４．レーザ照射による材料への影響５．レーザ洗浄適用によるメリットとデメリット６．適用事例紹介７．レーザクリーニング適用のためのサポート体制について８．まとめ【質疑応答】

＜１５：１０〜１６：２０＞４．エアー式非接触ドライ洗浄技術の基礎とドライクリーナの運用紹介

（株）伸興　添本 和彦 氏

【講座概要】あらゆるモノの製造工程において汚染、ゴミの発生は避けられず洗浄工程が検討、採用されているが、洗浄効果とコスト面からターゲットに対して適切な洗浄方式を選択することが重要です。本講演では比較的低コストである空気噴流を利用した非接触でミクロンオーダーの異物を除去するドライ洗浄技術と現場でのドライクリーナの運用例を紹介します。

【プログラム】１．会社紹介２．異物の付着力と分離力についての基礎３．超音波ドライクリーナとは４．数値計算の紹介５．非接触式ドライクリーナ運用事例の紹介６．接触式クリーナの紹介【質疑応答】