ポジ型およびネガ型レジスト材料の合成と評価方法および分子設計方法；KrF，ArF，EB，およびEUV用レジスト材料の開発方法

セミナー趣旨

フォトレジスト材料は，化学増幅型システムを基盤として，露光システムの変遷と共に進化をしてきた。その進化の変遷について，高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について解説する。さらに，KrF，ArF，EB，およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説する。 　
また，レジスト材料の基礎的な評価方法を解説し，新規なレジスト材料の開発方法について解説しながら，最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料の開発方法について解説する。

受講対象・レベル

・フォトレジストに関連する技術者，開発者，研究者
・フォトレジストで課題を抱えている方
・これからフォトレジストに携わる方

習得できる知識

・レジスト材料の基礎
・レジスト材料の開発方法
・レジスト材料の評価方法

セミナープログラム

１．レジスト材料
　　1.1 原理
　　1.2 合成例
　　1.3 最新の化学増幅型

２．ポジ型レジスト材料
　　2.1 材料的な特性
　　2.2 主な応用・用途

３．ネガ型レジスト材料
　　3.1 材料的な特性
　　3.2 主な応用・用途

４．高分子レジスト材料と低分子レジスト
　　4.1 材料的な特性
　　4.2 主な応用・用途

５．レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
　　5.1 レジスト材料の評価項目，評価手法について
　　5.2 レジスト材料の評価方法と開発例

６．最新型レジスト材料
　　6.1 メタルレジスト
　　6.2 EB,EUV用レジスト材料

７．良く出る質問，ケーススタディ，Ｑ＆Ａ
　　【例1】レジスト組成物としての添加剤の使用目的とは？
　　【例2】レジスト材料の機械的特性の評価法とは？
　　【例3】アウトガスの発生原因とその測定方法とは？
　　【例4】光源の照射量・時間・強さの調整法とは？
　　【例5】カリックスアレーンのレジスト材料への可能性は？
　　【例6】レジスト材料の耐久性，寿命予測法とは？
　　【例7】レジスト材料に求められる改善点，課題とは？
　　【例8】レジスト材料の保存管理のポイントは？
　　【例9】レジスト材料の安全性や規格規制の動きは？
　　【例10】レジスト材料の海外での研究実例は？

【質疑応答】

※受講者の皆様の抱える疑問点や問題点について，セミナー開催3日前までに
「事前リクエスト用紙」 （請求書に同封）や 「Eメール」 を御寄せ頂けましたら，
講演中に対応させて頂きます。

セミナー講師

関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 博士(工学) 　工藤 宏人 氏 

＜公職＞
・フォトﾎﾟﾘﾏｰ学会 理事
・【元】 (一社)ラドテック研究会 理事 
＜受賞歴＞
・2007年 高分子学会「日立化成賞」
【環状オリゴマーを基盤 とした光機能性材料 (レジスト，屈折率変換材料) の開発】

セミナー受講料

  1名につき55，000円（消費税込み・資料付き）
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき49，500円（税込み）〕

受講について

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