半導体製造におけるプロセスインフォマティクスの活用技術

セミナープログラム

【10:30-12:00】
 １．半導体製造におけるプロセスインフォマティクス　-製造条件の全体最適化に向けた最新技術-
  アイクリスタル(株)　代表取締役　騠石 将輝 氏 　

【講演概要】
製造会社にプロセスインフォマティクスを用いた製造条件最適化ソリューションを提供しているアイクリスタルだからこそ、多くの成功例や失敗例があります。本講演を通じて、プロセスインフォマティクスの基礎や定石、最新動向を知ることができます。

【受講対象】
生産技術部の方、製造事業部の方、DX推進部の方、製造データをこれから収集する方、製造データはすでにあるが活用方法を模索している方

【受講後、習得できること】
プロセスインフォマティクスの基礎理解。プロセス最適化へのAI活用の具体的なイメージの獲得

1.プロセスインフォマティクスの概要

2.プロセスインフォマティクスによる製造工程の最適化
　2.1 シミュレーションベースのデジタルツインによる最適化
　2.2 実験ベースのデジタルツインを用いた適応的実験計画
　2.3 製造(量産)時のデータを用いたプロセス異常検知

3.半導体製造におけるデジタルツインとプロセスインフォマティクス
　3.1 半導体結晶成長プロセスの最適化
　3.2 半導体の薄膜成長プロセスの最適化
　3.3 成膜条件の自律探索

4.多数の製造工程のデジタルツインとプロセスインフォマティクスの最新動向

【質疑応答】

【13:00-14:30】
 ２．ニューラルネットワークを用いたAIによる知能研磨システム
  岐阜大学　工学部　機械工学科　機械コース　創造システム工学講座　教授　博士（工学）　畝田 道雄 氏

【講演概要】
CMPでは副資材として，スラリー，パッド，コンディショナが用いられます．それらは，もちろん独立した副資材ではありますが，研磨プロセス全体を俯瞰してみるとき，大きく相互依存していることをご理解頂けるか，と思います．したがって，それぞれの副資材の部分最適を試みるよりも，全体最適を常に意識することの必要性にお気づき頂けるかと思います．全体最適を意識されるとき，AIの利用が効果的です．まったくバラバラに見えるデータもAIによって適切に処理すれば，新しい解が得られます．とりわけ，母性原理に従わないとされる研磨プロセスの知能化を図る上で，本講座への参加は効果的なものと考えます．リラックスされながら聴講して頂けますと幸いです。

【受講対象】
CMPに関わる（比較的若手の）技術者，研究者

【受講後、習得できること】
CMPにおける研磨メカニズムをスラリー，パッド，コンディショナの面，並びに，それらの相互関係から理解することができます．研磨メカニズムを知ることで，次なる副資材の開発に繋げることができると考えています．さらに，AIの利用によって，それらの相互作用の関係に気付かれるでしょう．いま，本講座には含まれませんが，AIプログラミングはpythonを使えば比較的簡単に実装することも可能です．本講座に参加され，直ぐに着手されることを勧めます。

1.パッドの役割
　1.1 パッドのアスペリティが研磨（特に研磨速度）にどのような影響を及ぼすか
　1.2 アスペリティの評価手法

2.単回帰データ分析
　2.1 研磨速度にパッドのアスペリティがどのように影響しているか
　2.2 単回帰分析の限界

3.AIの導入
　3.1 さまざまな条件や結果を一覧に整理し，AIによって解析すると何が見えてくるか
　3.2 AI解析によって何が実現可能になるか
　3.3 重回帰分析による研磨情報の分析

【質疑応答】

【14:45-16:15】
 ３．データ駆動プラズマ科学と半導体プロセス
  大阪大学　工学研究科　教授　Ph.D., 理学博士　浜口 智志 氏　

【講演概要】
半導体製造プロセス、特に、プラズマプロセスへのデータ駆動科学の応用の概要と現状について議論する。半導体プロセスおよびプラズマプロセスの基礎から解説するので、これからプラズマプロセスを学ぼうとする、この分野の初心者にも、概要が伝わりやすい講義を目指す。

【受講対象】
半導体プロセス、特に、プラズマプロセスへのデータ駆動科学（MLやAI）の応用に関心のある方。

【受講後、習得できること】
プラズマプロセスの概要、半導体プロセスのデータ駆動科学（MIやAI）応用の現状とその補法論の概要

1.プラズマプロセス概要

2.反応性イオンエッチング（RIE）・プラズマ支援CVD

3.原子層堆積（ALD）・原子層エッチング（ALE）プロセス

4.プラズマ計測とプロセス制御

5.データ駆動プラズマ科学の応用
　5.1 プロセス数値シミュレーションとTCAD(technical computer aided design)
　5.2 仮想計測(VM)とプロセス制御
　5.3 マテリアルズ・インフォマティクス
　5.4 プロセス開発における機械学習（ML）・人工知能（AI）の活用

【質疑応答】

セミナー講師

１．アイクリスタル(株)　代表取締役　騠石 将輝 氏 
２．岐阜大学　工学部　機械工学科　機械コース　創造システム工学講座　教授　博士（工学）　畝田 道雄 氏
３． 大阪大学　工学研究科　教授　Ph.D., 理学博士　浜口 智志 氏

セミナー受講料

  1名につき 60,500円（消費税込、資料付）
〔1社2名以上同時申込の場合のみ1名につき55,000円〕

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