生成AIと特許情報を活用した研究開発を加速させる実践的アプローチ【オンライン】

セミナー趣旨

知財部門や技術企画部門では、情報調査分析やイノベーション促進ツールを活用して研究開発を促進することが求められています。特許情報や生成AIは、この要求に応えるための強力なツールですが、効果を最大化するためには適切な知識とスキルが不可欠です。本セミナーでは、研究開発を促進し、イノベーションを推進するために必要な考え方を以下の観点から解説します。

１．自社技術の強みの明確化～技術の構造化手法
２．問題・課題の効果的な捉え方～アイデア創出と解決手法
３．イノベーションを進める上での特許情報と生成AI活用

さらに、これらのフレームワークをもとに、特許情報と生成AIを活用して、自社技術から用途探索や発明創出を行う実践事例を紹介します。具体的には、機能部材と材料起点の2つのケースを詳しく説明します。特に、材料起点のイノベーションに関しては、実際に開発を行ってきた経験に基づくインサイトをお伝えしたいと思います。

受講対象・レベル

知財・情報調査部門、技術・開発企画部門など、R&D・事業化支援スタッフ、技術者・研究者 特に、下記の課題認識をお持ちの方。
 ◆Ｒ＆Ｄの研究開発促進・新テーマ創出に貢献したい
 ◆研究開発促進のための生成ＡＩの活用のコツ・特許情報の活用方法を知りたい
 ◆Ｒ＆Ｄの特許活用、生成ＡＩ活用のための人材を育成したい
 ◆材料（素材）からの用途探索の考え方、コツを知りたい

セミナープログラム

１．情報調査分析・活用の課題
 (1) 知財・情報調査分析部門を取り巻く変化と課題
 (2) なぜ、情報分析がうまくいかないのか？　
 (3) 情報範囲の拡大～権利からビジネス情報：IPランドスケープ
 (4) 生成AIの影響とチャンス


２．イノベーションのためのフレームワーク　
 (1)イノベーションとは？
 (2)新テーマ創出のアプローチ～自社の強み起点フレームワーク　
　   新製品・新用途・新需要
 (3)体系的新用途創出プロセス
 (4)自社技術の強みの明確化iＭap ～ 技術～顧客価値を創出する
 (5)研究開発の起点：問題と課題の捉え方


３．情報調査分析のためのフレームワーク
 (1) 調査分析の課題
 (2) 調査分析パターンの明確化
 (3) プロセスの設定（ゴール・スタート、ステップ）


４．イノベーションに向けた特許情報と生成ＡＩ活用
　４．１ 特許情報
 　 (1) イノベーションの情報源としての特許　
　 　　・技術情報　・市場・顧客情報　・技術戦略情報
 　 (2) 特許情報活用の原則
 　 (3) ビジネス観点での特許情報の整理・活用方法
　　　問題と課題、技術の構造化・価値創出、eMap
　４．２ 生成ＡＩの活用（ChatGPT）
 　 (1) 生成AIとは？
 　 (2) イノベーションにおける生成AIの具体的な活用シーン
 　 (3) プロンプト（AIへの質問設計）の基礎と実践
 　 (4) 生成AIの進化：組み込みソフトの活用・独自AIの必要性
　４．３ 特許情報と生成ＡＩの使い分けのコツ


５．生成ＡＩ・特許情報を活用した調査分析の実践
　５．１ 機能部材における新用途探索プロセス実践事例　　
 　 (1)用途探索依頼を受けた時に明らかにすべきこと
 　 (2) ゴール、 スタート（技術）設定
 　 (3) 検索方針設定（生成AIプロンプト、特許検索検索式）
 　 (4) 一次用途候補抽出
 　 (5) 有力用途候補選定
 　 (6) 用途発明
　５．２ 材料開発に関する実践事例
　　５．２．１　材料におけるイノベーション
　　５．２．２　調査依頼の解析
 　　 (1) 調査目的と行動目標の明確化
 　　 (2) 生成AIを利用した特許情報解析
　　５．２．３　自社の強みの設定と生成AIによる仮説の設定
 　　 (1) 自社技術の強みの設定　材料の特性抽出・機能定義
 　　 (2) 技術の構造化m-iMapの作成
 　　 (3) 生成AIによる一次用途候補抽出
　　５．２．４　特許情報による課題の整理と発明の創出
 　　 (1) 課題の整理のための特許検索と重要特許の抽出
 　　 (2) 生成AI支援によるｅMapの作成
 　　 (3) 新用途における用途発明の創出

６．知財・調査分析部門における未来の方向性
 (1) スキル向上の方法
 (2) 組織的活用の注意点
 (3) サーチャーの未来の方向性


※申込状況により、開催中止となる場合がございます。
※講師・主催者とご同業の方のご参加はお断りする場合がございます。
※録音、録画・撮影・お申込者以外のご視聴はご遠慮ください。

セミナー講師

株式会社ケミストリーキューブ　エグゼクティブコンサルタント　葉山英樹 氏

１９８１年名古屋大学を卒業、日東電工（株）入社。エンジニアとして水処理用膜モジュールの製品開発、企画、市場開発などに取り組む。その後、経営企画、新規事業推進部門、技術企画部門において、新規事業・技術企画立案、オープンイノベーションなどを担当。２００７年から、特許情報を活用した新規テーマの探索プロセスの開発と社内コンサルティングを推進。２０１６年ワイズ特許サービス株式会社にて、事業に貢献するためのパテントマップ活用支援を提供。２０１７年より株式会社ケミストリーキューブにて、　特許情報を活用した新商品・新用途創造マーケティングに取り組んでいる。

元・日東電工（株）知的財産統括部 　情報管理室室長　大谷彰 氏

１９８３年名古屋工業大学大学院工学研究科を修了、日東電工（株）入社。１９８９年京都大学大学院にて導電性高分子の研究に関する工学博士を取得。その後日東電工中央研究所にて、導電性高分子の基礎研究と新製品開発に従事。１９９９年、液晶表示デバイス用光学フィルムの出願促進業務を担当。２００７年 知的財産統括部情報管理室室長として特許情報調査や、技術者の知的財産教育活動を推進。退職後、特許・技術調査とともに技術人材の育成の研究に取り組んでいる。

セミナー受講料

受講料（1名につき）　
会員44,000円（本体40,000円）　 一般48,400円（本体44,000円）

※会員価格適用については、企業研究会会員が対象となります。
（所属先の会員登録有無がわからない場合、お申込みの際に備考欄へ「会員登録確認希望」とご記入ください。）
※最少催行人数に満たない場合には、開催を中止させて頂く場合がございます。
※お申込後のキャンセルは原則としてお受けしかねます。お申込者がご出席いただけない際は、代理の方のご出席をお願い申し上げます。

受講について

視聴用アカウント・セミナー資料は、原則として開催1営業日前までにメールでお送りいたします。
※最新事例を用いて作成する等の理由により、資料送付が直前になる場合がございます。