【中止】EUVリソグラフィーの基礎から最新技術開発の現状、課題と今後の半導体微細加工技術の展開

★EUVリソグラフィ技術の現状、課題から　　　　　　　　　　　今後の日本の半導体復興に必要な項目まで解説！ ☆EUVL技術開発のキーポイントとは？※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。

セミナー講師

兵庫県公立大学法人 兵庫県立大学 名誉教授・特任教授社会価値創造機構 理学博士 渡邊 健夫 氏

セミナー受講料

55,000円（税込、資料付）■ セミナー主催者からの会員登録をしていただいた場合、1名で申込の場合49,500円、　 2名同時申込の場合計55,000円（2人目無料：1名あたり27,500円）で受講できます。（セミナーのお申し込みと同時に会員登録をさせていただきますので、　  今回の受講料から会員価格を適用いたします。）※ 会員登録とは　 ご登録いただきますと、セミナーや書籍などの商品をご案内させていただきます。　 すべて無料で年会費・更新料・登録費は一切かかりません。　 メールまたは郵送でのご案内となります。　 郵送での案内をご希望の方は、備考欄に【郵送案内希望】とご記入ください。

受講について

Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順

1. Zoomを使用されたことがない方は、こちらからミーティング用Zoomクライアントをダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
2. セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。
3. 開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加ください。

• セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。ご自宅への送付を希望の方はコメント欄にご住所などをご記入ください。開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますことご了承下さい。
• 無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

セミナー趣旨

　2019年よりEUVリソグラフィー（EUVL）は7 nm+世代の半導体量産技術として適用が開始された。この状況まで来るのに、EUVLの黎明期を含め約35年掛かって実現した。兵庫県立大学は国内大学が保有している中で最大のニュースバル放射光施設を有しており、これまでASET、SELETE,EUVA、EIDECの４つ国家プロジェクトの参画し、また、これまで数多くの国内外の企業との共同研究を通じてEUVL技術開発に貢献してきた。講演ではEUVL技術の黎明期からその技術の基礎について、また、現在の技術状況と課題、そして、今後の展開について解説する。さらに、日本の半導体復興に必要な項目について理解を深める。　黎明期のEUVL技術開発の紹介により、より深くEUVL技術開発のキーポイントの理解を深めていただきます。また、EUVL技術の現状および課題については、EUV露光装置（EUV光源を含み）に加えて、EUVレジスト、EUVマスク、EUVペリクルなどEUVL全般に亘って基盤技術について解説する。

受講対象・レベル

・製造業務にたずさわって2~3年の若手技術者や新人の方、並びに学生：院生

必要な予備知識

・特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。

習得できる知識

・EUVリソグラフィ技術の基礎、現状、課題。今後の展開・また、今後の日本の半導体復興に向けた提言

セミナープログラム

1. はじめに

2. 半導体の動向

3. EUVリソグラフィーとは

4. EUVリソグラフィーの黎明期

5. EUVリソグラフィーの必要性

6. EUVLの技術課題

7. EUVL用露光機（EUV光源を含む）

8. EUVレジスト　　1) 化学増幅系レジスト、非科学増幅系レジスト、金属レジスト、他　　評価系　　2) ホモジニティ、レジスト膜の層分離など

9. EUVマスク　　1) 構造、多層膜、吸収体、High-kおよびLow-k材料　　2) マスク評価系、など

10. EUVペリクル       1) 材料　    2) 評価系

11. 日本の半導体の将来に向けて

12. まとめ

キーワード：EUV,リソグラフィー,EUVL,レジスト,マスク,ペリクル,セミナー,講演