SiCパワーデバイスの現状と課題、高温対応実装技術

49,500 円(税込)

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開催日 13:00 ~ 16:30 
主催者 サイエンス&テクノロジー株式会社
キーワード 電子デバイス・部品   半導体技術   自動車技術
開催エリア 全国
開催場所 Zoomを利用したオンライン講座

■パワー半導体デバイス/パッケージの最新技術動向■Si-IGBTの強み、SiCパワーデバイスの特長と課題。市場予測■シリコンIGBT、SiCデバイス実装技術、SiCデバイス特有の設計、プロセス技術

  ★ 自動車の電動化(xEV)へシリコンIGBTをいかに凌駕していくか!  ★ 半導体素子や実装技術、市場予測を含め、わかりやすくかつ丁寧に解説します。

 

日時

【Live配信(アーカイブ配信付き)】 2024年12月23日(月)  13:00~16:30【アーカイブの視聴期間】2024年12月24日(火)~1月6日(月)まで  受講可能な形式:【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ  ※アーカイブ配信のみの受講もOKです。

セミナー講師

筑波大学 数理物質系 教授 岩室 憲幸 氏<経歴>1984年早稲田大学理工学部卒、1998年 博士(工学)(早稲田大学)富士電機株式会社に入社。1988年から現在までパワーデバイスシミュレーション技術、IGBT、ならびにWBGデバイス研究、開発、製品化に従事1992年 North Carolina State Univ. Visiting Scholar. MOS-gate thyristorの研究に従事1999年-2005年 薄ウェハ型IGBTの製品開発に従事2009年5月-2013年3月 産業技術総合研究所。SiC-MOSFET、SBDの研究,量産技術開発に従事2013年4月- 国立大学法人 筑波大学 教授。現在に至るIEEE Senior Member, 電気学会上級会員、応用物理学会会員、著書多数<主な受賞>日経エレクトロニクス パワーエレクトロニクスアワード2020 最優秀賞 (2020年12月)電気学会 第23回 優秀活動賞 技術報告賞 (2020年4月)電気学会 優秀技術活動賞 グループ著作賞 (2011年)<専門>シリコン、SiCパワー半導体設計、解析技術

セミナー受講料

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49,500円( E-mail案内登録価格46,970円 )E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料2名で 49,500円 (2名ともE-mail案内登録必須/1名あたり定価半額24,750円)

【1名分無料適用条件】※2名様ともE-mail案内登録が必須です。※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。※3名様以上のお申込みの場合、1名あたり定価半額で追加受講できます。※請求書(PDFデータ)は、代表者にE-mailで送信いたします。※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。 (申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。)※他の割引は併用できません。

 テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】 1名申込みの場合:受講料37,400円(E-Mail案内登録価格 35,640円) ※1名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。※他の割引は併用できません。

受講、配布資料などについて

ZoomによるLive配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください)アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認(申込み前に必ずご確認ください)

配布資料

  • PDFテキスト(印刷可・編集不可)

セミナー趣旨

2024年現在、世界各国は自動車の電動化(xEV)開発に向け大きく進展している。そしてこのxEV化はもはや大きな潮流となった。xEVの性能を決める基幹部品であるパワーデバイスでは、新材料SiCデバイスの普及が大いに期待されており、すでにxEVへの搭載も始まっている。今後はシリコンIGBTをいかに凌駕していくかに注目が集まっている。そこでポイントとなるのが、新材料SiCデバイスの性能、信頼性、さらには価格が市場の要求にどう応えていくかであると思われる。最強の競争相手であるシリコンIGBTからSiC開発技術の現状と今後の動向について、半導体素子や実装技術、さらには市場予測を含め、わかりやすく、かつ丁寧に解説する。

習得できる知識

・パワー半導体デバイスならびにパッケージの最新技術動向。・Si-IGBTの強み、SiCパワーデバイスの特長と課題。・パワー半導体デバイスならびにSiC市場予測。・シリコンIGBT、SiCデバイス実装技術。・SiCデバイス特有の設計、プロセス技術、など。

セミナープログラム

1.パワーエレクトロニクス(パワエレ)とはなに? 1.1 パワエレ&パワーデバイスの仕事 1.2 パワー半導体の種類と基本構造 1.3 パワーデバイスの適用分野 1.4 最近のトピックスから 1.5 パワーデバイスのお客様は何を望んでいるのか? 1.6 シリコンMOSFET・IGBTの伸長 1.7 パワーデバイス開発のポイント2.最新シリコンIGBTの進展と課題 2.1 パワーデバイス市場の現在と将来 2.2 IGBT特性改善を支える技術 2.3 IGBT特性改善の次の一手 2.4 新型IGBTとして期待されるRC-IGBTとはなに?3.SiCパワーデバイスの現状と課題 3.1 半導体デバイス材料の変遷 3.2 ワイドバンドギャップ半導体とは? 3.3 なぜSiCパワーデバイスが新材料パワーデバイスでトップランナなのか? 3.4 SiC-MOSFETのSi-IGBTに対する勝ち筋 3.5 SiC-MOSFETの普及拡大のために解決すべき課題 3.6 SiC MOSFETコストダウンのための技術開発   1) SiCウェハ新技術   2) MOSFETセル技術 3.7 低オン抵抗化がなぜコストダウンにつながるのか? 3.8 SiC-MOSFET内蔵ダイオードのVf劣化とは? 3.9 内蔵ダイオード信頼性向上技術   1) プロトン照射   2) SiCウェハ新技術   3) SBD内蔵SiC MOSFET4.SiCパワーデバイス実装技術の進展 4.1 SiC-MOSFETモジュールに求められるもの 4.2 銀または銅焼結接合技術 4.3 SiC-MOSFETモジュール技術5.まとめ  □質疑応答□