ナノインプリントによる微細構造転写の基礎と光学部材・デバイスへの応用とDX活用に向けた取り組み

■本講座の注目ポイント
★ナノインプリントを用いた光学部材・光学デバイスの開発研究動向とDX活用、産業応用について紹介!

 

【項目】※クリックするとその項目に飛ぶことができます

    セミナー趣旨

    ■本セミナーの主題および状況(講師より)
    ★ナノインプリンによる微細構造の表面転写は、熱式による加熱・加圧方式や紫外線硬化樹脂の塗布とその紫外線樹脂を微細構造とするポリマーの精密転写成形であります。
    ★各方式では、熱による粘弾性の制御や紫外線による架橋度の制御が重要であります。求められる精度や品質のハードルは高く、ポリマーの塗布技術、加圧による変形、金型との離型など、さまざまな課題を抱えています。
    ★先端微細加工技術で製造した金型で樹脂表面に光の波長サイズのパターンを形成するナノインプリント技術は、新しい光学デバイスの製造技術として近年、AR,VR用光導波路、3Dセンサー、メタレンズ、バイオセンサーなど広い分野で応用が広がっています。

    ■注目ポイント
    ★ポリマー特性と微細構造の転写の基礎と機構について平易に解説!
    ★微細構造と光学デバイスや防汚特性などへの応用展開やプロセス・材料設計などの最新の動向について紹介!
    ★ナノインプリントした樹脂表面による偏光、回折、位相制御などを利用した具体的光学デバイスの機能と産業上の応用について紹介!

    セミナープログラム

    【第1講】 熱式およびUV式ナノインプリントプロセスによる微細構造転写の基礎とその形成機構
    【時間】 13:00-14:30
    【講師】山形大学大学院 有機材料システム研究科 教授 伊藤 浩志 氏

    【講演主旨】
    ナノインプリンによる微細構造の表面転写は、熱式による加熱・加圧方式や紫外線硬化樹脂の塗布とその紫外線樹脂を微細構造とするポリマーの精密転写成形である。各方式では、熱による粘弾性の制御や紫外線による架橋度の制御が重要である。求められる精度や品質のハードルは高く、ポリマーの塗布技術、加圧による変形、金型との離型など、さまざまな課題を抱えています。
     本講演では今後も発展を続けるナノインプリント技術の需要に対して、主に加工プロセスによる微細構造の形成に注目し、熱可塑性ポリマーや紫外線硬化材料となるポリマーの特性、加工技術、その形態の賦形の基礎について解説します。

    【プログラム】
    1.はじめに
     1-1 ポリマーの基礎(特性と高次構造)
     1-2 ポリマーの成形加工(インプリント、ロール、射出成形 他)
     1-3 成形加工における高次構造と物性

    2.熱式インプリントによる微細構造
     2-1 バッチ式プロセスによる表面微細構造
     2-2 ロールツーロール式による連続微細転写成形

    3.UV式インプリントによる微細構造
     3-1 ロールツーロール式による連続微細転写成形

    4.微細構造による機能化(光学、防汚性)
     4-1 ナノ構造の転写性と機能化
     4-2 最新の研究動向

    【質疑応答】

    【キーワード】
    熱式インプリント、紫外線硬化式インプリント、ロールツーロール式転写技術、構造形成、表面特性

    【講演のポイント】
    ポリマー特性と微細構造の転写について、その基礎と機構について平易に解析します。そのうえで、微細構造と光学デバイスや防汚特性などへの応用展開やプロセス・材料設計などの最新の動向について紹介します。

    【習得できる知識】
    ①ポリマーの基礎とインプリント加工性の基礎
    ②熱式インプリントの加工条件と微細転写性の関係
    ③紫外線インプリントの加工条件と転写性の関係



    【第2講】 ナノインプリントを用いた光学部材の開発研究とDX活用
    【時間】 14:35-15:50
    【講師】産業技術総合研究所 研究主幹 栗原 一真 氏

    【講演主旨】
    ※現在、講師の先生に最新のご講演主旨をご考案いただいております。完成次第、本ページを更新いたします。

    【プログラム】
    ※現在、講師の先生に最新のご講演プログラムをご考案いただいております。完成次第、本ページを更新いたします。



    【第3講】 ナノインプリント装置と光学デバイスへの応用
    【時間】 15:55-17:10
    【講師】SCIVAX株式会社 技術フェロー 粟屋 信義 氏

    【講演主旨】
    先端微細加工技術で製造した金型で樹脂表面に光の波長サイズのパターンを形成するナノインプリント技術は、新しい光学デバイスの製造技術として近年、AR,VR用光導波路、3Dセンサー、メタレンズ、バイオセンサーなど広い分野で応用が広がっています。
     本演ではナノインプリント技術の成形、離型の基本から紹介し、そのごナノインプリントした樹脂表面による偏光、回折、位相制御などを利用した具体的光学デバイスの機能と産業上の応用について紹介します。

    【プログラム】
    1.SCIVAXについて

    2. ナノインプリント技術の基礎 -主要な要素技術、課題と対策-
     2-1. ナノインプリントとは
     2-2. ナノインプリントの各工程の代表的方式

    3. ナノインプリントの装置
     3-1. SCIVAXナノインプリント装置の歴史

    4.光学デバイスの作製事例
     4-1. 表面ナノ加工技術の産業への応用
     4-2. 光学デバイスへの応用①-ワイヤグリッド偏光子、構造性位相差板
     4-3. 光学デバイスへの応用② -ARグラス、メタレンズ-
     4-4. 光学デバイスへの応用③-3Dセンサー用光学素子

    5.今後の展望

    【質疑応答】

    【キーワード】
    メタレンズ、メタサーフェス、ARグラス、位相差板、偏光子、3Dセンサー

    【習得できる知識】
    ①ナノインプリント基礎技術
    ②ナノフォトニクス光学デバイスの機能と製造技術

    セミナー講師

    第1部  山形大学大学院  有機材料システム研究科 教授  伊藤 浩志 氏
    第2部  産業技術総合研究所  研究主幹  栗原 一真 氏
    第3部  SCIVAX株式会社  技術フェロー  粟屋 信義 氏

    セミナー受講料

    【1名の場合】49,500円(税込、テキスト費用を含む)
      2名以上は一人につき、16,500円が加算されます。


     

    受講料

    49,500円(税込)/人

    ※セミナーに申し込むにはものづくりドットコム会員登録が必要です

    開催日時


    13:00

    受講料

    49,500円(税込)/人

    ※本文中に提示された主催者の割引は申込後に適用されます

    ※銀行振込

    開催場所

    全国

    主催者

    キーワード

    高分子・樹脂加工/成形   半導体技術   光学技術

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    13:00

    受講料

    49,500円(税込)/人

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    全国

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    キーワード

    高分子・樹脂加工/成形   半導体技術   光学技術

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