ＥＵＶリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と課題解決策および今後の展望

セミナー趣旨

習得できる知識

極端紫外線リソグラフィー技術について、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等基盤技術全般に亘り解説します。

セミナープログラム

セミナー講師

兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 次世代EUVL寄附講座 PI・特任教授　渡邊 健夫　氏

略歴
昭和６１年　関西医科大学教養部物理学教室非常勤講師
平成　２年　大阪市立大学大学院理学研究科後期博士課程修了　理学博士
平成　２年　シャープ（株）中央研究所　DRAMの研究開発に従事
光リソグラフィー、電子線リソグラフィー、X線等倍露光、極端紫外線リソグラフィーの半導体微細加工の研究開発に従事
平成　８年　旧姫路工業大学高度産業科学技術研究所助手
　　　　　　極端紫外線リソグラフィーの研究開発に従事
平成１６年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所助教
　　　　　　極端紫外線リソグラフィーの研究開発に従事
平成２０年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所准教授
平成２７年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所教授
　　　　　　同研究所極端紫外線リソグラフィー研究開発センター　センター長
平成２８年　兵庫県立大学高度産業科学技術研究所 所長・教授
令和　４年　兵庫県立大学　学長特別補佐（先端科学技術研究担当）、
　　　　　　同大学高度産業科学技術研究所 所長
　　　　　　同大学同研究所極端紫外線リソグラフィー研究開発センター長、教授

＜国際学会の活動＞
1) フォトポリマー国際会議（International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST).）、理事、国際局長、EUVL国際シンポジウム議長
2) フォトマスクジャパン（International Conference on Photomask Japan）、組織委員会委員長
3) International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication (EIPBN)、プログラム委員
4) nternational Roadmap for Device and System (IRDS), Lithography Committee member

セミナー受講料

※お申込みと同時にS&T会員登録をさせていただきます(E-mail案内登録とは異なります)。

55,000円 ( E-Mail案内登録価格 52,250円 )
定価：本体50,000円＋税5,000円
E-Mail案内登録価格：本体47,500円＋税4,750円

E-Mail案内登録なら、2名同時申込みで1名分無料
2名で55,000円（2名ともE-Mail案内登録必須​／１名あたり定価半額の27,500円）

テレワーク応援キャンペーン(1名受講)【オンライン配信セミナー受講限定】
1名申込みの場合：受講料44,000円（E-Mail案内登録価格 42,020円）　
　定価：本体40,000円＋税4,000円　E-Mail案内登録価格：本体38,200円＋税3,820円
※１名様でオンライン配信セミナーを受講する場合、上記特別価格になります。
※他の割引は併用できません。

＜1名分無料適用条件＞
※2名様ともE-mail案内登録が必須です。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、１名あたり定価半額で追加受講できます。
※請求書（PDFデータ）は、代表者にE-mailで送信いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
　(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。

受講について

ZoomによるLive配信　►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください）

配布資料

• 製本テキスト(開催日の4、5日前に発送予定)
  　※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が開催日に間に合わないことがございます。
  　　Zoom上ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。