リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望

セミナー趣旨

受講対象・レベル

研究開発、製造技術業務にたずさわって2～3年の若手技術者の方から中堅技術者、リーダー

習得できる知識

１．レジスト・リソグラフィ技術の基礎と技術開発の必然性、マイクロエレクトロニクスの高密度化、高速化、低コスト化に伴うリソグラフィ技術の微細化・レジストの高解像度化などの高品位化の歴史的変遷およびイノベーションの創出過程を知ることができる。

２．技術・レジスト材料開発の実例を学ぶことにより、効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用が可能となる。

３．事業課題の設定、事業計画の策定・推進、その他、新規事業の立ち上げや海外進出の推進、他社との資本・業務提携・アライアンスなどに関する企画立案などの参考になる。

４．科学技術の進歩の負の側面として顕在化してきている地球規模の課題の解決に向けて半導体産業が果たす役割を考察し、日本の半導体産業の現状と課題を整理し、今後の展開の指針としたい。

セミナープログラム

１．技術パラダイムシフトと半導体集積回路
 1.1 科学技術の発展
 1.2 技術パラダイムシフト
 1.3 マイクロエレクトロニクス(ME)と社会 ～AI技術の展開～
 1.4 ＭＥの黎明期とフォトレジスト
 
２．フォトレジストの本流
　2.1 ゴム系ネガ型フォトレジスト
　　(1) リソグラフィプロセスの確立
　　(2) 基本的構造及び製造法
　2.2 ノボラック系ポジ型レジスト
　　(1) 基本的組成
　　(2) マトリックス樹脂製法、感光性化合物
　　(3) レジストの透明性と解像度
　　(4) i-線レジスト
　　(5) リソグラフィプロセスでの化学と工程管理
　　(6) レジストの溶剤と環境への影響
　　(7) 高性能化への工夫と新たなイノベーション
 
３．フォトレジストの裏街道
　3.1 Ｘ線レジスト
　3.2 Top Surface Imaging：DESIRE
　3.3 Deep UVリソグラフィ
　　(1) 黎明期のレジスト
　　(2) 化学増幅型レジスト
　　(3) 光酸発生剤
 
４．エキシマレーザリソグラフィ
　4.1 KrFレジスト
　　(1) エキシマレーザリソグラフィ実現への課題
　　(2) 光源・光学系の課題
　　(3) 化学増幅型レジストの課題
　　(4) 材料からの改良
　　(5) プロセス面からの改良
　　(6) 実用化されたレジスト材料
　4.2 ArFレジスト
　　(1) ArFレジスト実現への課題
　4.3 液浸リソグラフィ
 
５．EUVリソグラフィ
　5.1 光源・露光機の開発
　5.2 レジスト開発
　　　 開発現状と課題／LERの要因と対応
　5.3  無機レジスト
　　　 感度・解像度／保存安定性
　5.4  EUVLの課題
　　　 光源／露光装置／マスク／レジスト／評価装置

６．今後の展望
　6.1 高解像度化と現像プロセス
　　　 現像過程での膨潤と解像度
　6.2 今後のパターン形成プロセス
　6.3 ナノインプリント技術の実用化
 
７．科学技術と社会(半導体と人間)
　7.1 実装材料（ポリイミド）
　7.2 フラットパネルディスプレイ材料
　7.3 ブレインマシンインターフェイス(BMI)
　7.4 科学技術と社会(地球規模の課題と科学技術/半導体)
 
８．国の安全保障の根幹を担う半導体産業
　8.1 半導体産業の重要性
　8.2 日本および世界の半導体産業の現状
　8.3 経産省の戦略
　8.4 再生のための論点
 
９．効率的にイノベーションを創出するために
　　 知的財産戦略とMOT

１０．まとめ

□ 質疑応答 □

セミナー講師

鴨志田技術事務所  代表　鴨志田 洋一　氏　（元神奈川大学、ＪＳＲ(株)）
【専門】
機能性高分子、高分子合成、リソグラフィ材料、知的財産権、コーポレートガバナンス

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