半導体デバイスにおける洗浄技術の基礎と技術動向と今後の課題

セミナー趣旨

受講対象・レベル

研究開発および製造業務にたずさわっている中堅、若手や新人の方対象です。
特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。

習得できる知識

〇半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる。
〇最新の洗浄液技術を習得できます。

セミナープログラム

１．序論－汚染が半導体デバイスに与える影響
　1.1  クリーン化の重要性
　1.2　金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
　1.3　分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
　1.4　各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

２．洗浄技術
　2.1　RCA洗浄
　2.2　各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄　vs. 純水系洗浄
　2.3　洗浄プロセスの動向
　2.4　乾燥技術
　2.5　最先端の洗浄技術とその問題点

３．その他の汚染制御技術
　3.1　工場設計
　3.2　ウェーハ保管、移送方法

４．次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
　4.1　新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)
　4.2　次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題

　　□ 質疑応答 □

セミナー講師

セミナー受講料

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